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    光阻組成物
    2.
    发明专利
    光阻組成物 审中-公开
    光阻组成物

    公开(公告)号：TW201812446A

    公开(公告)日：2018-04-01

    申请号：TW106114971

    申请日：2017-05-05

    申请人： 住友化學股份有限公司 ,  SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

    发明人： 増山達郎 ,  MASUYAMA, TATSURO ,  市川幸司 ,  ICHIKAWA, KOJI

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/38

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38

    摘要： 一種光阻組成物包含酸產生劑及樹脂，該樹脂包含含酸不穩定基的結構單元，其中，該酸產生劑產生酸(I)或酸(II)：該酸(I)顯示12(MPa)1/2至15(MPa)1/2的範圍之氫鍵參數及15(MPa)1/2以上之範圍的極性參數；該酸(II)顯示12(MPa)1/2至15(MPa)1/2的範圍之氫鍵參數，且酸(II)與γ-丁內酯之間的韓森溶解度參數之距離為7.5以下，以及該距離係計算自式(1)：R=(4×(δ dA-18)2+(δ pA-16.6)2+(δ hA-7.4)2)1/2 (1) 其中，δ dA表示酸之分散參數，δ pA表示酸之極性參數，δ hA表示酸之氫鍵參數，及R表示酸與γ-丁內酯之間的韓森溶解度參數之距離。

    简体摘要： 一种光阻组成物包含酸产生剂及树脂，该树脂包含含酸不稳定基的结构单元，其中，该酸产生剂产生酸(I)或酸(II)：该酸(I)显示12(MPa)1/2至15(MPa)1/2的范围之氢键参数及15(MPa)1/2以上之范围的极性参数；该酸(II)显示12(MPa)1/2至15(MPa)1/2的范围之氢键参数，且酸(II)与γ-丁内酯之间的韩森溶解度参数之距离为7.5以下，以及该距离系计算自式(1)：R=(4×(δ dA-18)2+(δ pA-16.6)2+(δ hA-7.4)2)1/2 (1) 其中，δ dA表示酸之分散参数，δ pA表示酸之极性参数，δ hA表示酸之氢键参数，及R表示酸与γ-丁内酯之间的韩森溶解度参数之距离。

    光阻組成物
    6.
    发明专利
    光阻組成物 审中-公开
    光阻组成物

    公开(公告)号：TW201804249A

    公开(公告)日：2018-02-01

    申请号：TW106115451

    申请日：2017-05-10

    申请人： 住友化學股份有限公司 ,  SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

    发明人： 増山達郎 ,  MASUYAMA, TATSURO ,  市川幸司 ,  ICHIKAWA, KOJI

    IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  C08F220/32

    CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38

    摘要： 一種光阻組成物包含酸產生劑及樹脂，該樹脂包含衍生自含酸不穩定基的單體(a1)的一個以上結構單元(a1)，全部單體(a1)顯示單體(a1)與乙酸丁酯間之韓森(Hansen)溶解度參數之距離為3至5之範圍，該距離係自式(1)計算：R=(4x(δ dm+15.8)2+(δ pm-3.7)2+(δ hm-6.3)2)1/2 (1)其中，δ dm表示單體之分散參數，δ pm表示單體之極性參數，δ hm表示單體之氫鍵參數，及R表示韓森溶解度參數之距離，及至少一個單體(a1)顯示單體(a1)與於其中酸自單體(a1)去除的化合物間之R的差為不小於5之範圍。

    简体摘要： 一种光阻组成物包含酸产生剂及树脂，该树脂包含衍生自含酸不稳定基的单体(a1)的一个以上结构单元(a1)，全部单体(a1)显示单体(a1)与乙酸丁酯间之韩森(Hansen)溶解度参数之距离为3至5之范围，该距离系自式(1)计算：R=(4x(δ dm+15.8)2+(δ pm-3.7)2+(δ hm-6.3)2)1/2 (1)其中，δ dm表示单体之分散参数，δ pm表示单体之极性参数，δ hm表示单体之氢键参数，及R表示韩森溶解度参数之距离，及至少一个单体(a1)显示单体(a1)与于其中酸自单体(a1)去除的化合物间之R的差为不小于5之范围。

    感放射線性組成物及圖案形成方法
    9.
    发明专利
    感放射線性組成物及圖案形成方法 审中-公开
    感放射线性组成物及图案形成方法

    公开(公告)号：TW201800848A

    公开(公告)日：2018-01-01

    申请号：TW106105171

    申请日：2017-02-17

    申请人： JSR股份有限公司 ,  JSR CORPORATION

    发明人： 笠原一樹 ,  KASAHARA, KAZUKI

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/0043 ,  B32B5/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38

    摘要： 本發明的目的在於提供一種能夠以高感度形成解析度優異的圖案的感放射線性組成物及圖案形成方法。本發明的感放射線性組成物含有以金屬氧化物作為主成分的粒子、感放射線性酸產生物、及有機溶劑，且構成所述金屬氧化物的金屬原子包含第1金屬原子，該第1金屬原子為鋅、硼、鋁、鎵、鉈、鍺、銻、鉍、碲或該等原子的組合，自所述感放射線性酸產生物產生的酸的范德華體積為2.0×10-28m3以上，且所述第1金屬原子相對於組成物中的全部金屬原子的含有率為50原子%以上。本發明的圖案形成方法包括：藉由在基板塗敷所述的該感放射線性組成物而形成膜的步驟；對所述膜進行曝光的步驟；及對所述經曝光的膜進行顯影的步驟。

    简体摘要： 本发明的目的在于提供一种能够以高感度形成分辨率优异的图案的感放射线性组成物及图案形成方法。本发明的感放射线性组成物含有以金属氧化物作为主成分的粒子、感放射线性酸产生物、及有机溶剂，且构成所述金属氧化物的金属原子包含第1金属原子，该第1金属原子为锌、硼、铝、镓、铊、锗、锑、铋、碲或该等原子的组合，自所述感放射线性酸产生物产生的酸的范德华体积为2.0×10-28m3以上，且所述第1金属原子相对于组成物中的全部金属原子的含有率为50原子%以上。本发明的图案形成方法包括：借由在基板涂敷所述的该感放射线性组成物而形成膜的步骤；对所述膜进行曝光的步骤；及对所述经曝光的膜进行显影的步骤。

    衍生自降莰二烯和馬來酸酐之聚合物及其用途
    10.
    发明专利
    衍生自降莰二烯和馬來酸酐之聚合物及其用途 审中-公开
    衍生自降莰二烯和马来酸酐之聚合物及其用途

    公开(公告)号：TW201740189A

    公开(公告)日：2017-11-16

    申请号：TW105143893

    申请日：2016-12-29

    申请人： 普羅梅勒斯有限公司 ,  PROMERUS LLC

    发明人： 羅得思 拉里F ,  RHODES, LARRY F. ,  崁達那拉曲奇 帕拉蒙 ,  KANDANARACHCHI, PRAMOD

    IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F232/08 ,  G03F7/023 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40

    CPC分类号： C08F32/08 ,  C08F32/06 ,  C08L45/00 ,  C08L47/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/322 ,  G03F7/40

    摘要： 本發明揭示了包括含有降莰二烯和馬來酸酐單體的聚合物且對各種可光圖案化結構的形成有用之一系列組成物之具體實例並對其主張權益。前述組成物係對作為永久性介電材料有用。更具體言之，本發明揭示包括含有各種降莰二烯、馬來酸酐、馬來醯亞胺及降莰烯型環烯烴單體的一系列三元和四元聚合物以及光活性化合物之組成物之具體實例，其中馬來酸酐係全部或局部水解，亦即開環且全部或局部酯化，本發明的組成物在各種各樣的其他用途中，尤其對用於各種電子材料領域中之永久性介電材料的形成有用。

    简体摘要： 本发明揭示了包括含有降莰二烯和马来酸酐单体的聚合物且对各种可光图案化结构的形成有用之一系列组成物之具体实例并对其主张权益。前述组成物系对作为永久性介电材料有用。更具体言之，本发明揭示包括含有各种降莰二烯、马来酸酐、马来酰亚胺及降莰烯型环烯烃单体的一系列三元和四元聚合物以及光活性化合物之组成物之具体实例，其中马来酸酐系全部或局部水解，亦即开环且全部或局部酯化，本发明的组成物在各种各样的其他用途中，尤其对用于各种电子材料领域中之永久性介电材料的形成有用。