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公开(公告)号:TW201800842A
公开(公告)日:2018-01-01
申请号:TW106103077
申请日:2017-01-26
申请人: 富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人: 西尾亮 , NISHIO, RYO , 小島雅史 , KOJIMA, MASAFUMI , 後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI , 土村智孝 , TSUCHIMURA, TOMOTAKA , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 加藤啓太 , KATO, KEITA
IPC分类号: G03F7/004 , C07C381/12 , C07D213/89 , C07D333/46 , C07D327/08 , C07D335/16 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07D215/58 , C07D211/96 , C08F220/18 , C08F220/32 , C08F220/28 , G03F7/038 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号: C07C309/12 , C07C309/17 , C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要: 本發明提供一種可形成LWR小的圖案、且所形成的圖案的崩塌得到進一步抑制的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子元件的製造方法。本發明的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有:由通式(1)所表示的光酸產生劑、或者具有自通式(1)所表示的光酸產生劑中去除1個氫原子而成的殘基的樹脂。
简体摘要: 本发明提供一种可形成LWR小的图案、且所形成的图案的崩塌得到进一步抑制的感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子组件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有:由通式(1)所表示的光酸产生剂、或者具有自通式(1)所表示的光酸产生剂中去除1个氢原子而成的残基的树脂。
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公开(公告)号:TWI545118B
公开(公告)日:2016-08-11
申请号:TW102133123
申请日:2013-09-13
申请人: 羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC , 陶氏全球科技責任有限公司 , DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
发明人: 拉貝美 保羅J , LABEAUME, PAUL J. , 瑞奇佛德 亞倫A , RACHFORD, AARON A. , 強尼 凡保 , JAIN, VIPUL
IPC分类号: C07D335/12 , C07D339/08 , C07D335/16 , C07D327/02 , C07C309/23 , C07D493/18 , G03F7/004 , H01L21/311
CPC分类号: G03F7/0045 , C07C381/12 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20
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公开(公告)号:TW201420611A
公开(公告)日:2014-06-01
申请号:TW102133127
申请日:2013-09-13
发明人: 賽可瑞 詹姆士W , THACKERAY, JAMES W. , 成鎭旭 , SUNG, JIN WUK , 拉貝美 保羅J , LABEAUME, PAUL J. , 強尼 凡保 , JAIN, VIPUL
IPC分类号: C08F2/38 , C08L101/02 , C07D335/14 , C07D335/16 , C07D339/08 , C07C309/11 , C07C309/12 , C07C309/24 , C07C381/12 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20
摘要: 本發明係有關於新穎光阻劑組成物,其包含(a)包含酸產生劑鍵結於其上的聚合物;及(b)非鍵結至該聚合物及其包含或多個酸不穩定基的酸產生劑化合物。
简体摘要: 本发明系有关于新颖光阻剂组成物,其包含(a)包含酸产生剂键结于其上的聚合物;及(b)非键结至该聚合物及其包含或多个酸不稳定基的酸产生剂化合物。
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公开(公告)号:TW201902886A
公开(公告)日:2019-01-16
申请号:TW107118167
申请日:2018-05-28
发明人: 遠島隆行 , TOHJIMA, TAKAYUKI
IPC分类号: C07D335/16 , C07D335/04 , C07D409/12 , C08F2/50
摘要: 本發明提供一種由下述式(1)表示的化合物、及使用該化合物之光硬化性組成物。式(1)中,R1及R2分別獨立地表示氫原子、羧基、磺基、羥基、乙醯胺基、鹵素原子、氰基、硝基、胺磺醯基、(C1-C8)烷基、或(C1-C8)烷氧基,R3表示(C1-C8)烷基或(C1-C8)烷氧基,R4表示氫原子、(C1-C8)烷基、(C2-C8)烯基、芳基、或雜芳基,R2與R3可相互鍵結而形成環狀結構,並且,R3彼此可鍵結而形成二聚物。
简体摘要: 本发明提供一种由下述式(1)表示的化合物、及使用该化合物之光硬化性组成物。式(1)中,R1及R2分别独立地表示氢原子、羧基、磺基、羟基、乙酰胺基、卤素原子、氰基、硝基、胺磺酰基、(C1-C8)烷基、或(C1-C8)烷氧基,R3表示(C1-C8)烷基或(C1-C8)烷氧基,R4表示氢原子、(C1-C8)烷基、(C2-C8)烯基、芳基、或杂芳基,R2与R3可相互键结而形成环状结构,并且,R3彼此可键结而形成二聚物。
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公开(公告)号:TW201835117A
公开(公告)日:2018-10-01
申请号:TW106142181
申请日:2017-12-01
发明人: 遠島行 , TOHJIMA, TAKAYUKI , 落直之 , OCHI, NAOYUKI , 舘野将輝 , TATENO, MASAKI
IPC分类号: C08F2/50 , C08K5/45 , C08L63/10 , C09K3/10 , H01L23/29 , H01L23/31 , G02F1/1339 , C07D335/16
摘要: 本發明係關於一種藉由紫外線、可見光線等光的照射而硬化之樹脂組成物,並且本發明提供一種對光之感度高且即使藉由低能量光亦可充分硬化之樹脂組成物。 本發明之光硬化性樹脂組成物係包含成分(A)在分子內具有氮原子之硫雜蒽酮化合物。
简体摘要: 本发明系关于一种借由紫外线、可见光线等光的照射而硬化之树脂组成物,并且本发明提供一种对光之感度高且即使借由低能量光亦可充分硬化之树脂组成物。 本发明之光硬化性树脂组成物系包含成分(A)在分子内具有氮原子之硫杂蒽酮化合物。
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公开(公告)号:TW201835116A
公开(公告)日:2018-10-01
申请号:TW106137768
申请日:2017-11-01
发明人: 施朱明 , SHI, ZHUMING , 琚振華 , JU, ZHENHUA , 陸 琤 , LU, CHENG , 歐陽 江波 , OUYANG, JIANGBO , 陳瑾茜 , CHEN, JINQIAN
IPC分类号: C08F2/50 , C07D335/16 , C07D413/06 , C07D417/06 , C07D409/06 , C07D409/12 , C07D417/12 , C08K5/45 , C08L101/00 , C09J11/06 , C09J201/00 , G02F1/1339
摘要: 本發明係關於硫雜蒽酮衍生物光引發劑、包含其之輻射可固化組合物及其用途。具體而言,本發明係關於適用於製造液晶顯示器件之滴入式注入方法中而無液晶污染問題之硫雜蒽酮衍生物光引發劑。
简体摘要: 本发明系关于硫杂蒽酮衍生物光引发剂、包含其之辐射可固化组合物及其用途。具体而言,本发明系关于适用于制造液晶显示器件之滴入式注入方法中而无液晶污染问题之硫杂蒽酮衍生物光引发剂。
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公开(公告)号:TWI619733B
公开(公告)日:2018-04-01
申请号:TW102133127
申请日:2013-09-13
发明人: 賽可瑞 詹姆士W , THACKERAY, JAMES W. , 成鎭旭 , SUNG, JIN WUK , 拉貝美 保羅J , LABEAUME, PAUL J. , 強尼 凡保 , JAIN, VIPUL
IPC分类号: C08F2/38 , C08L101/02 , C07D335/14 , C07D335/16 , C07D339/08 , C07C309/11 , C07C309/12 , C07C309/24 , C07C381/12 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20
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公开(公告)号:TWI642654B
公开(公告)日:2018-12-01
申请号:TW103121689
申请日:2014-06-24
发明人: 榎本智至 , ENOMOTO, SATOSHI
IPC分类号: C07C43/23 , C07C35/38 , C07C39/12 , C07D219/06 , C07D311/86 , C07D335/16 , C07C49/782 , C07C33/24 , C07D309/12 , G03F7/028 , G03F7/004 , G03F7/20 , H01L21/027
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公开(公告)号:TW201605780A
公开(公告)日:2016-02-16
申请号:TW103140751
申请日:2014-11-25
发明人: 酒井信彦 , SAKAI, NOBUHIKO , 簗場康佑 , YANABA, KOSUKE
IPC分类号: C07C317/24 , C07C317/44 , C07D335/16
CPC分类号: G03F7/0045 , C07C317/14 , C07C317/24 , C07C317/44 , C07C2603/24 , C07D335/16 , G03F7/029 , G03F7/031
摘要: 本發明之課題在於提供一種對波長300至450nm附近的活性能量射線具有高感度,且可發揮高的酸產生能力及自由基產生能力這兩種性能,又具備耐熱性之酸及自由基產生劑,以及酸及自由基產生方法。 本發明係關於通式(A)所示的化合物、包含該化合物之酸及自由基產生劑以及酸及自由基產生方法; (式中,n個R1分別獨立地表示鏈中可具有特定官能基且可被鹵原子取代之烷基;可被鹵原子取代之烷氧基;可被鹵原子、烷基或鹵烷基取代之芳香基或芳氧基;或可被鹵原子、烷基或鹵烷基取代之芳香基烷基或芳香基烷氧基;n個R2及R3分別獨立地表示氫原子、烷基或烷氧羰基;R4至R7分別獨立地表示氫原子、鹵原子、烷基、烷氧基、烯基、芳香基、烷氧羰基、二烷基胺基或硝基;Y表示氧原子、硫原子或羰基;n個Z分別獨立地表示磺醯基或烷氧基磷醯基;n表示1或2)。
简体摘要: 本发明之课题在于提供一种对波长300至450nm附近的活性能量射线具有高感度,且可发挥高的酸产生能力及自由基产生能力这两种性能,又具备耐热性之酸及自由基产生剂,以及酸及自由基产生方法。 本发明系关于通式(A)所示的化合物、包含该化合物之酸及自由基产生剂以及酸及自由基产生方法; (式中,n个R1分别独立地表示链中可具有特定官能基且可被卤原子取代之烷基;可被卤原子取代之烷氧基;可被卤原子、烷基或卤烷基取代之芳香基或芳氧基;或可被卤原子、烷基或卤烷基取代之芳香基烷基或芳香基烷氧基;n个R2及R3分别独立地表示氢原子、烷基或烷氧羰基;R4至R7分别独立地表示氢原子、卤原子、烷基、烷氧基、烯基、芳香基、烷氧羰基、二烷基胺基或硝基;Y表示氧原子、硫原子或羰基;n个Z分别独立地表示磺酰基或烷氧基磷酰基;n表示1或2)。
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公开(公告)号:TWI497203B
公开(公告)日:2015-08-21
申请号:TW102144953
申请日:2013-12-06
发明人: 大橋正樹 , OHASHI, MASAKI , 畠山潤 , HATAKEYAMA, JUN , 阿達鐵平 , ADACHI, TEPPEI , 福島將大 , FUKUSHIMA, MASAHIRO
IPC分类号: G03F7/004 , C08F20/38 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07D335/16
CPC分类号: G03F7/027 , C08F220/22 , C08F2220/382 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
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