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公开(公告)号：TWI689543B
公开(公告)日：2020-04-01
申请号：TW104123766
申请日：2015-07-22
发明人： 南悟志 , MINAMI, SATOSHI , 根木之 , NEGI, TAKAYUKI , 川月喜弘 , KAWATSUKI, NOBUHIRO , 近藤瑞穂 , KONDO, MIZUHO
IPC分类号： C08L101/08 , C08K5/09 , C08K5/092 , C08K5/1535 , C08K5/18 , C08K5/315 , C08K5/32 , C08K5/3415 , C08K5/3432 , C08K5/45 , G02F1/1337
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公开(公告)号：TWI681020B
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW104142301
申请日：2015-12-16
发明人： 米山依慶 , YONEYAMA, YORIYOSHI , 松木裕一 , MATSUKI, YUICHI , 齋木丈章 , SAIKI, TAKEAKI
IPC分类号： C09D4/02 , C09D7/40 , C09D133/14 , C09K19/38 , C08K5/45 , C08K5/3492
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3.发明专利
公开(公告)号：TWI646138B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：TW103139769
申请日：2014-11-17
申请人： 贏創德固賽有限責任公司 , EVONIK DEGUSSA GMBH
发明人： 史密特 菲德瑞克 , SCHMIDT, FRIEDRICH GEORG , 希爾夫 史蒂芬 , HILF, STEFAN , 庫柏 麥克 , KUBE, MICHAEL , 湯凱 祖哈 , TUNCAY, ZUHAL
IPC分类号： C08L33/04 , C08L25/14 , C08F220/18 , C08F212/08 , C08F220/40 , C08K5/38 , C08K5/45 , C08K5/3415 , C08K5/3417 , C08J5/04 , C08J5/24 , C08J3/24
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公开(公告)号：TWI560227B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW101122036
申请日：2012-06-20
发明人： 金源曄 , KIM, WONYEOB , 林珉貞 , IM, MINJOUNG , 李承彥 , LEE, SEUNGEON , 郭孝信 , KWAK, HYOSHIN , 金明來 , KIM, MYOUNGLAE , 趙容均 , CHO, YONGGYUN
CPC分类号： G02B1/04 , C08J5/18 , C08J2301/12 , C08K5/16 , C08K5/22 , C08K5/30 , C08K5/32 , C08K5/405 , G02B5/3083 , G02F1/133634 , C08L1/12
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公开(公告)号：TW201636390A
公开(公告)日：2016-10-16
申请号：TW104140872
申请日：2015-12-07
发明人： 朴裕信 , PARK, YU-SHIN , 金潤俊 , KIM, YUN-JUN , 金兌鎬 , KIM, TAE-HO , 朴惟廷 , PARK, YOU-JUNG , 崔有廷 , CHOI, YOO-JEONG , 權孝英 , KWON, HYO-YOUNG , 金昇炫 , KIM, SEUNG-HYUN , 南宮爛 , NAMGUNG, RAN , 拉特維 豆米尼阿 , RATHWELL, DOMINEA , 文秀賢 , MUN, SOO-HYOUN , 宋炫知 , SONG, HYUN-JI , 鄭鉉日 , JUNG, HYEON-IL , 許柳美 , HEO, YU-MI
CPC分类号： C08G73/0672 , G03F7/0041 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094 , H01L51/0018
摘要： 有機層組成物包含：包含由化學式1表示的部分的聚合物、由化學式2表示的單體以及溶劑，還提供一種由所述有機層組成物製造的有機層，和一種使用所述有機層組成物形成圖案的方法。 化學式1和化學式2的定義與具體實施方式中相同。 [化學式1][化學式2]
简体摘要： 有机层组成物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组成物制造的有机层，和一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。 化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。 [化学式1][化学式2]
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公开(公告)号：TW201634553A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW105105349
申请日：2016-02-24
申请人： 富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人： 松下泰明 , MATSUSHITA, YASUAKI
CPC分类号： H01L51/0071 , C08K5/00 , C08K2201/001 , C09D11/03 , C09D11/38 , C09D11/52 , H01L27/3274 , H01L29/786 , H01L51/0005 , H01L51/0007 , H01L51/005 , H01L51/0052 , H01L51/0055 , H01L51/0072 , H01L51/0073 , H01L51/0074 , H01L51/0094 , H01L51/0512 , H01L51/0558 , H01L51/5012
摘要： 本發明的課題在於提供一種印刷性優異、且可製作移動率及絕緣可靠性優異的有機薄膜電晶體的有機半導體膜形成用組成物。本發明的課題亦在於提供一種有機薄膜電晶體、電子紙及顯示元件。本發明的有機半導體膜形成用組成物包括有機半導體材料、酚性還原劑、重量平均分子量為50萬以上的高分子化合物、界面活性劑、及標準沸點為150℃以上的有機溶劑，所述有機半導體材料的含量相對於所述高分子化合物的含量的比例以質量基準計為0.02～10，且所述酚性還原劑的含量相對於所述高分子化合物的含量的比例以質量基準計為0.1～5。
简体摘要： 本发明的课题在于提供一种印刷性优异、且可制作移动率及绝缘可靠性优异的有机薄膜晶体管的有机半导体膜形成用组成物。本发明的课题亦在于提供一种有机薄膜晶体管、电子纸及显示组件。本发明的有机半导体膜形成用组成物包括有机半导体材料、酚性还原剂、重量平均分子量为50万以上的高分子化合物、界面活性剂、及标准沸点为150℃以上的有机溶剂，所述有机半导体材料的含量相对于所述高分子化合物的含量的比例以质量基准计为0.02～10，且所述酚性还原剂的含量相对于所述高分子化合物的含量的比例以质量基准计为0.1～5。
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公开(公告)号：TWI541240B
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：TW103121916
申请日：2014-06-25
申请人： 第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
发明人： 辛明曄 , SHIN, MYOUNG YOUP , 金元中 , KIM, WON JUNG , 田桓承 , CHEON, HWAN SUNG , 鄭義樹 , JEONG, EUI SOO
IPC分类号： C07D409/06 , C08K5/45 , G03F7/031 , G02B5/20 , G02B5/22
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8.发明专利
公开(公告)号：TW201602208A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW103139769
申请日：2014-11-17
申请人： 贏創工業股份有限公司 , EVONIK INDUSTRIES AG
发明人： 史密特 菲德瑞克 , SCHMIDT, FRIEDRICH GEORG , 希爾夫 史蒂芬 , HILF, STEFAN , 庫柏 麥克 , KUBE, MICHAEL , 湯凱 祖哈 , TUNCAY, ZUHAL
IPC分类号： C08L33/04 , C08L25/14 , C08F220/18 , C08F212/08 , C08F220/40 , C08K5/38 , C08K5/45 , C08K5/3415 , C08K5/3417 , C08J5/04 , C08J5/24 , C08J3/24
CPC分类号： C08J5/24 , B29B13/02 , B29B13/08 , B29B15/10 , B29C35/02 , B29C35/16 , B29C70/48 , B29K2033/08 , B29L2031/753 , C08F220/18 , C08J2333/12 , C08F220/40 , C08F220/38 , C08F220/36
摘要： 本發明係關於一種貯存穩定之預浸體的製造方法及由該預浸體所製造之模製物體(複合組件)。依照本發明之製造該預浸體所用的組成物在此含有A)單體，尤其是(甲基)丙烯酸酯及/或苯乙烯，B)至少一種具有含共軛二烯之殘基的(甲基)丙烯酸酯，C)具有至少二個親二烯基團的交聯劑，及D)至少一種合適的起始劑。 另一選擇地，該組成物可含有該二成分B)和C)之狄耳士-阿德爾反應的產物C'代替成分B)和C)或作為成分B)和C)之額外成分。
简体摘要： 本发明系关于一种贮存稳定之预浸体的制造方法及由该预浸体所制造之模制物体(复合组件)。依照本发明之制造该预浸体所用的组成物在此含有A)单体，尤其是(甲基)丙烯酸酯及/或苯乙烯，B)至少一种具有含共轭二烯之残基的(甲基)丙烯酸酯，C)具有至少二个亲二烯基团的交联剂，及D)至少一种合适的起始剂。 另一选择地，该组成物可含有该二成分B)和C)之狄耳士-阿德尔反应的产物C'代替成分B)和C)或作为成分B)和C)之额外成分。
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公开(公告)号：TWI481685B
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：TW099102759
申请日：2010-01-29
发明人： 早川明伸 , HAYAKAWA, AKINOBU , 石澤英亮 , ISHIZAWA, HIDEAKI , 竹田幸平 , TAKEDA, KOHEI , 增井良平 , MASUI, RYOHEI
IPC分类号： C09J163/00 , C09J133/02 , C08K5/45 , C08K9/06 , H01L21/50
CPC分类号： C09J171/02 , C08L33/062 , C08L63/00 , C08L2666/04 , C08L2666/14 , C09J133/062 , C09J163/00 , H01L23/295 , H01L24/29 , H01L2924/15788 , H01L2924/00
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公开(公告)号：TWI481654B
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：TW098110030
申请日：2009-03-27
申请人： 富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人： 尼崎一路 , AMASAKI, ICHIRO , 木村桂三 , KIMURA, KEIZO , 竹島洋一郎 , TAKESHIMA, YOICHIRO
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