公开(公告)号：US20090309048A1

公开(公告)日：2009-12-17

申请号：US12465118

申请日：2009-05-13

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus VAN HERPEN ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Wouter Anthon Soer ,  Johannes Christiaan Leonardu Franken ,  Olav Waldemar Vladimir Frijns ,  Niels Machiel Driessen

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus VAN HERPEN ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Wouter Anthon Soer ,  Johannes Christiaan Leonardu Franken ,  Olav Waldemar Vladimir Frijns ,  Niels Machiel Driessen

IPC分类号： G01J3/10 ,  G21K5/00

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G01N21/15 ,  G03F7/70558

摘要： An optical sensor apparatus for use in an extreme ultraviolet lithographic system is disclosed. The apparatus includes an optical sensor comprising a sensor surface and a removal mechanism configured to remove debris from the sensor surface. Accordingly, dose and/or contamination measurements may be carried out conveniently for the lithographic system.

摘要翻译： 公开了一种用于极紫外光刻系统的光学传感器装置。 该装置包括光学传感器，其包括传感器表面和被配置为从传感器表面去除碎屑的移除机构。 因此，可以方便地为光刻系统进行剂量和/或污染测量。