公开(公告)号：US20120187840A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：US13358018

申请日：2012-01-25

申请人： Paul F. HENSLEY

发明人： Paul F. HENSLEY

IPC分类号： H05B41/36 ,  H05H1/24

CPC分类号： H05H1/2406 ,  H05B41/2806 ,  H05H1/0093 ,  H05H2001/2412 ,  Y02B20/22

摘要： Apparatus and methods for generating and optimizing a plasma discharge are provided. The device includes a plasma generating device, one or more sensors, and at least one controller for adjusting the plasma in light of the sensed characteristics. Methods for optimizing a plasma, particularly a spatially disoriented plasma discharge include generating a plasma, sensing one or more plasma characteristics, modifying one or more plasma generating properties to optimize the plasma.

摘要翻译： 提供了用于产生和优化等离子体放电的装置和方法。 该装置包括等离子体产生装置，一个或多个传感器，以及至少一个控制器，用于根据检测到的特性来调节等离子体。 用于优化等离子体，特别是空间偏心等离子体放电的方法包括产生等离子体，感测一种或多种等离子体特性，修改一种或多种等离子体产生性质以优化等离子体。

公开(公告)号：US09428718B2

公开(公告)日：2016-08-30

申请号：US13381411

申请日：2010-06-29

申请人： Paul F. Hensley

发明人： Paul F. Hensley

IPC分类号： C11D11/00 ,  C11D3/43 ,  C11D7/50

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/43 ,  C11D7/5022

摘要： Disclosed is a liquid cleaning mixture used to remove DMSO and other solvents and compounds that may build up on the surface of dielectric barrier material in a plasma cleaning device, where the DMSO, solvent and compounds have become contaminants.

摘要翻译： 公开了一种液体清洗混合物，其用于除去DMSO和其它可能在等离子体清洁装置中的介质阻挡材料的表面积聚的溶剂和化合物，其中DMSO，溶剂和化合物已经成为污染物。

公开(公告)号：US20120149621A1

公开(公告)日：2012-06-14

申请号：US13381411

申请日：2010-06-29

申请人： Paul F. Hensley

发明人： Paul F. Hensley

IPC分类号： C11D17/00

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/43 ,  C11D7/5022

摘要： Disclosed is a liquid cleaning mixture used to remove DMSO and other solvents and compounds that may build up on the surface of dielectric barrier material in a plasma cleaning device, where the DMSO, solvent and compounds have become contaminants.

摘要翻译： 公开了一种液体清洗混合物，其用于除去DMSO和其它可能在等离子体清洁装置中的介质阻挡材料的表面积聚的溶剂和化合物，其中DMSO，溶剂和化合物已经成为污染物。

公开(公告)号：US08773018B2

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：US13358018

申请日：2012-01-25

申请人： Paul F. Hensley

发明人： Paul F. Hensley

IPC分类号： H01J7/24

CPC分类号： H05H1/2406 ,  H05B41/2806 ,  H05H1/0093 ,  H05H2001/2412 ,  Y02B20/22

摘要： Apparatus and methods for generating and optimizing a plasma discharge are provided. The device includes a plasma generating device, one or more sensors, and at least one controller for adjusting the plasma in light of the sensed characteristics. Methods for optimizing a plasma, particularly a spatially disoriented plasma discharge include generating a plasma, sensing one or more plasma characteristics, modifying one or more plasma generating properties to optimize the plasma.

摘要翻译： 提供了用于产生和优化等离子体放电的装置和方法。 该装置包括等离子体产生装置，一个或多个传感器，以及至少一个控制器，用于根据检测到的特性来调节等离子体。 用于优化等离子体，特别是空间偏心等离子体放电的方法包括产生等离子体，感测一种或多种等离子体特性，修改一种或多种等离子体产生性质以优化等离子体。