公开(公告)号：US20070008508A1

公开(公告)日：2007-01-11

申请号：US11522611

申请日：2006-09-18

申请人： Burn Lin ,  Tsai-Sheng Gau ,  Chun-Kuang Chen ,  Ru-Gun Liu ,  Shinn Yu ,  Jen Shih

发明人： Burn Lin ,  Tsai-Sheng Gau ,  Chun-Kuang Chen ,  Ru-Gun Liu ,  Shinn Yu ,  Jen Shih

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70808

摘要： Various seal ring arrangements for an immersion lithography system are disclosed. With the seal ring arrangements, the immersion lithography system can provide better sealing effect for processing the wafers on a wafer chuck.

摘要翻译： 公开了用于浸没式光刻系统的各种密封环装置。 利用密封环布置，浸没式光刻系统可以为晶片卡盘上的晶片加工提供更好的密封效果。