公开(公告)号：US20120251956A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13351681

申请日：2012-01-17

申请人： M. Dalil RAHMAN ,  Douglas MCKENZIE ,  Jianhui SHAN ,  JoonYeon CHO ,  Salem K. MULLEN ,  Clement ANYADIEGWU

发明人： M. Dalil RAHMAN ,  Douglas MCKENZIE ,  Jianhui SHAN ,  JoonYeon CHO ,  Salem K. MULLEN ,  Clement ANYADIEGWU

IPC分类号： G03F7/20 ,  C09D171/10

CPC分类号： H01L21/3081 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/3424 ,  C09D165/00 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276

摘要： The invention relates to an antireflective coating composition comprising a crosslinker and a crosslinkable polymer capable of being crosslinked by the crosslinker, where the crosslinkable polymer comprises a unit represented by structure (1): [-A-B-C-]  (1) where A is a fused aromatic ring, B has a structure (2), and C is a hydroxybiphenyl of structure (3) where R1 is C1-C4alkyl and R2 is C1-C4alkyl.The invention further relates to a process for forming an image using the composition.

摘要翻译： 本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含能够由交联剂交联的交联剂和可交联聚合物，其中可交联聚合物包含由结构（1）表示的单元：[-ABC-]（1）其中A是稠合 芳香环，B为结构（2），C为结构式（3）的羟基联苯，其中R 1为C 1 -C 4烷基且R 2为C 1 -C 4烷基。 本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。

公开(公告)号：US20150093912A1

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：US14039809

申请日：2013-09-27

申请人： Hengpeng WU ,  Jian YIN ,  Guanyang LIN ,  JiHoon KIM ,  Jianhui SHAN

发明人： Hengpeng WU ,  Jian YIN ,  Guanyang LIN ,  JiHoon KIM ,  Jianhui SHAN

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： H01L21/02118 ,  C08F220/14 ,  C08F220/40 ,  G03F7/00 ,  H01L21/02282 ,  C08F212/08

摘要： Disclosed herein is a formulation for depositing a cured underlayer for promoting the formation of self assembled structures. The underlayer comprises: (a) a polymer comprising at least one pendant vinyl ether monomer repeat unit having the structure, (I): wherein R is chosen from H, C1-C4 alkyl, or halogen, and W is a divalent group chosen from C1-C6 alkylene, C6-C20 arylene, benzylene, or C2-C20 alkyleneoxyalkylene; (ii) optional thermal acid generator; and (c) a solvent. The invention also relates to processes of forming a pattern using the underlayer.

摘要翻译： 本文公开了一种用于沉积固化的底层以促进自组装结构的形成的制剂。 底层包括：（a）包含至少一种具有以下结构的侧链乙烯基醚单体重复单元的聚合物：（I）：其中R选自H，C 1 -C 4烷基或卤素，W是选自 C1-C6亚烷基，C6-C20亚芳基，亚苄基或C2-C20亚烷基氧亚烷基; （ii）可选的热酸发生器; 和（c）溶剂。 本发明还涉及使用底层形成图案的工艺。