公开(公告)号：US07461614B2

公开(公告)日：2008-12-09

申请号：US10705224

申请日：2003-11-12

申请人： Steven T Fink ,  Eric J Strang ,  Arthur H Laflamme, Jr. ,  Jay Wallace ,  Sandra Hyland

发明人： Steven T Fink ,  Eric J Strang ,  Arthur H Laflamme, Jr. ,  Jay Wallace ,  Sandra Hyland

IPC分类号： C23C4/10 ,  H01L21/205

CPC分类号： H01J37/32633 ,  H01J37/32834 ,  H01L21/67069

摘要： A baffle plate assembly, configured to be coupled to a substrate holder in a plasma processing system, comprises a baffle plate having one or more openings to permit the passage of gas there through, wherein the coupling of the baffle plate to the substrate holder facilitates auto-centering of the baffle plate in the plasma processing system. For example, a centering ring mounted in the substrate holder can comprise a centering feature configured to couple with a mating feature on the baffle plate. After initial assembly of the plasma processing system, the baffle plate can be replaced and centered within the plasma processing system without disassembly and re-assembly of the substrate holder.

摘要翻译： 构造成在等离子体处理系统中耦合到衬底保持器的挡板组件包括具有一个或多个开口以允许气体在其中通过的挡板，其中挡板与衬底保持器的联接有利于自动 - 等离子体处理系统中的挡板的重心。 例如，安装在基板保持器中的定心环可以包括配置成与挡板上的配合特征联接的定心特征。 在初始组装等离子体处理系统之后，挡板可以在等离子体处理系统内更换并居中，而不会拆卸和重新组装衬底支架。