公开(公告)号：US4430400A

公开(公告)日：1984-02-07

申请号：US304153

申请日：1981-09-21

申请人： Toshio Nakano ,  Yoshio Taniguchi ,  Ken Tsutsui ,  Akira Sasano ,  Tadeo Kaneko ,  Akiya Izumi ,  Michiaki Hashimoto

发明人： Toshio Nakano ,  Yoshio Taniguchi ,  Ken Tsutsui ,  Akira Sasano ,  Tadeo Kaneko ,  Akiya Izumi ,  Michiaki Hashimoto

IPC分类号： G02B5/20 ,  G03F7/00 ,  H01L27/14 ,  H04N9/07 ,  G03F5/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0007

摘要： Disclosed is a method of producing color filters, which comprises forming a layer of an organic polymeric material having a predetermined light-sensitive characteristic on a substrate, exposing this layer to a predetermined pattern, developing the exposed layer to form a filter base and dyeing the filter base, wherein after the development of the exposed layer, the layer is wetted with a dehydrating solution to remove water from the filter base. By this dehydrating treatment, the filter base can be processed with very high precision.

摘要翻译： 公开了一种生产滤色器的方法，其包括在基板上形成具有预定光敏特性的有机聚合物材料层，将该层暴露于预定图案，显影曝光层以形成滤色器基底并染色 过滤基底，其中在暴露层的显影之后，用脱水溶液润湿层以从过滤器基底去除水。 通过该脱水处理，可以以非常高的精度对过滤器基底进行加工。