公开(公告)号：US08227149B2

公开(公告)日：2012-07-24

申请号：US12656881

申请日：2010-02-18

申请人： YongJin Chun ,  Soohan Choi ,  Sangwook Kim ,  Seongwoon Choi ,  Sukjoo Lee ,  Sungwoo Lee ,  Youngchang Kim ,  SungSoo Suh ,  Jin-sun Choi

发明人： YongJin Chun ,  Soohan Choi ,  Sangwook Kim ,  Seongwoon Choi ,  Sukjoo Lee ,  Sungwoo Lee ,  Youngchang Kim ,  SungSoo Suh ,  Jin-sun Choi

IPC分类号： G03F1/70

CPC分类号： G03F1/36

摘要： Methods of forming masks. According to the methods, a target pattern is set. Generation of a side lobe caused by the target pattern is verified. A preliminary target pattern and a preliminary side lobe pattern are set, in the target pattern and a region where the side lobe is generated, respectively. An interference pattern map using the preliminary target pattern and the preliminary side lobe pattern is created. At least one of regions having a phase identical or opposite to that of a position of the preliminary target pattern in the interference pattern map is set to an interference auxiliary pattern. A mask using the interference auxiliary pattern and the target pattern is formed.

摘要翻译： 形成掩模的方法 根据该方法，设定目标图案。 验证由目标图案引起的旁瓣的产生。 分别在目标图案和产生旁瓣的区域中分别设置初步目标图案和初步旁瓣图案。 创建使用初步目标图案和初步旁瓣图案的干涉图案图。 具有与干涉图案图中的预备目标图案的位置相同或相反的相位的区域中的至少一个被设置为干涉辅助图案。 形成使用干涉辅助图案和目标图案的掩模。

公开(公告)号：US20100216063A1

公开(公告)日：2010-08-26

申请号：US12656881

申请日：2010-02-18

申请人： YongJin Chun ,  Soohan Choi ,  Sangwook Kim ,  Seongwoon Choi ,  Sukjoo Lee ,  Sungwoo Lee ,  Youngchang Kim ,  SungSoo Suh ,  Jin-sun Choi

发明人： YongJin Chun ,  Soohan Choi ,  Sangwook Kim ,  Seongwoon Choi ,  Sukjoo Lee ,  Sungwoo Lee ,  Youngchang Kim ,  SungSoo Suh ,  Jin-sun Choi

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F1/36

摘要： Methods of forming masks. According to the methods, a target pattern is set. Generation of a side lobe caused by the target pattern is verified. A preliminary target pattern and a preliminary side lobe pattern are set, in the target pattern and a region where the side lobe is generated, respectively. An interference pattern map using the preliminary target pattern and the preliminary side lobe pattern is created. At least one of regions having a phase identical or opposite to that of a position of the preliminary target pattern in the interference pattern map is set to an interference auxiliary pattern. A mask using the interference auxiliary pattern and the target pattern is formed.

摘要翻译： 形成掩模的方法 根据该方法，设定目标图案。 验证由目标图案引起的旁瓣的产生。 分别在目标图案和产生旁瓣的区域中分别设置初步目标图案和初步旁瓣图案。 创建使用初步目标图案和初步旁瓣图案的干涉图案图。 具有与干涉图案图中的预备目标图案的位置相同或相反的相位的区域中的至少一个被设置为干涉辅助图案。 形成使用干涉辅助图案和目标图案的掩模。