公开(公告)号：US20050221724A1

公开(公告)日：2005-10-06

申请号：US11088786

申请日：2005-03-25

申请人： Takahiro Terada ,  Masaomi Nakahata ,  Yasutada Nakagawa

发明人： Takahiro Terada ,  Masaomi Nakahata ,  Yasutada Nakagawa

IPC分类号： B24B37/00 ,  B24B57/02 ,  H01L21/304 ,  B24B1/00

CPC分类号： B24B37/04 ,  B24B57/02

摘要： A polishing apparatus. The polishing apparatus has an abrasive cloth and a table to rotate the abrasive cloth. A holder holds a subject to be polished against the abrasive cloth. A discharger discharges a polishing solution from the abrasive cloth after the polishing solution passes between the abrasive cloth and the subject.

摘要翻译： 抛光装置。 抛光装置具有研磨布和用于旋转研磨布的工作台。 持有人将被磨光对象物磨擦。 抛光液在研磨布与被检体之间通过后，排出器从研磨布排出抛光液。