公开(公告)号：US08124230B2

公开(公告)日：2012-02-28

申请号：US12583078

申请日：2009-08-13

申请人： Paul A. Zimmerman ,  Aristeidis Bakandritsos ,  Michael F. Zettel ,  Markos Trikeriotis ,  Robert Rodriguez ,  Emmanuel P. Giannelis ,  Woo Jin Bae ,  Christopher K. Ober

发明人： Paul A. Zimmerman ,  Aristeidis Bakandritsos ,  Michael F. Zettel ,  Markos Trikeriotis ,  Robert Rodriguez ,  Emmanuel P. Giannelis ,  Woo Jin Bae ,  Christopher K. Ober

IPC分类号： B32B5/66

CPC分类号： C01G25/02 ,  B82Y30/00 ,  C01G23/047 ,  C01G27/00 ,  C01G27/02 ,  C01P2002/82 ,  C01P2004/64 ,  C01P2004/84 ,  C01P2006/22 ,  C01P2006/60 ,  Y10T428/2991 ,  Y10T428/2993 ,  Y10T428/2995 ,  Y10T428/2996 ,  Y10T428/2998

摘要： The present invention relates generally to non-aggregating nanoparticles, including ligand capped metal oxide nanoparticles. Methods for their synthesis and methods for their use, for example, for improved immersion lithography processes, are also disclosed.

摘要翻译： 本发明一般涉及非聚集纳米颗粒，包括配体封端的金属氧化物纳米颗粒。 还公开了它们的合成方法及其使用方法，例如用于改进的浸没式光刻工艺。

公开(公告)号：US07732120B2

公开(公告)日：2010-06-08

申请号：US12249416

申请日：2008-10-10

申请人： Paul A. Zimmerman ,  Chris K. Van Peski

发明人： Paul A. Zimmerman ,  Chris K. Van Peski

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F1/62 ,  H01J2237/3165 ,  Y10T428/31544

摘要： The present invention relates generally to the fields of semiconductor lithography. More particularly, it concerns methods, compositions, and apparatuses relating to 157 nm and 193 nm soft pellicles and the use of perfluorinated polymers in the creation of pellicles.

摘要翻译： 本发明一般涉及半导体光刻领域。 更具体地，涉及与157nm和193nm软膜相关的方法，组合物和装置以及全氟化聚合物在产生薄膜中的用途。

公开(公告)号：US07709180B2

公开(公告)日：2010-05-04

申请号：US12241624

申请日：2008-09-30

申请人： Paul A. Zimmerman ,  Chris Van Peski

发明人： Paul A. Zimmerman ,  Chris Van Peski

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F1/62 ,  H01J2237/3165

摘要： The present invention relates generally to the fields of semiconductor lithography. More particularly, it concerns methods, compositions, and apparatuses relating to 157 nm, 167 nm, 193 nm, 248 nm, 365 nm, and 436 nm soft pellicles and the use of perfluorinated polymers in the creation of pellicles.

摘要翻译： 本发明一般涉及半导体光刻领域。 更具体地，涉及与157nm，167nm，193nm，248nm，365nm和436nm软膜相关的方法，组合物和装置，以及全氟化聚合物在产生薄膜中的用途。

公开(公告)号：US20090081567A1

公开(公告)日：2009-03-26

申请号：US12241624

申请日：2008-09-30

申请人： Paul A. Zimmerman ,  Chris Van Peski

发明人： Paul A. Zimmerman ,  Chris Van Peski

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F1/62 ,  H01J2237/3165

摘要： The present invention relates generally to the fields of semiconductor lithography. More particularly, it concerns methods, compositions, and apparatuses relating to 157 nm, 167 nm, 193 nm, 248 nm, 365 nm, and 436 nm soft pellicles and the use of perfluorinated polymers in the creation of pellicles.

摘要翻译： 本发明一般涉及半导体光刻领域。 更具体地，涉及与157nm，167nm，193nm，248nm，365nm和436nm软膜相关的方法，组合物和装置，以及全氟化聚合物在产生薄膜中的用途。