公开(公告)号：US08974718B2

公开(公告)日：2015-03-10

申请号：US13168668

申请日：2011-06-24

申请人： Hiroe Ishikura

发明人： Hiroe Ishikura

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F1/56 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F1/56 ,  G03F7/039

摘要： A method for producing a structure includes, in this order, providing a substrate composed of a first resin layer and a second resin layer laminated in this order, the first resin layer being made of a positive photosensitive resin having positive photosensitivity to light having a wavelength of 280 nm or more, and the second resin layer containing an anthracene compound, partially exposing the second resin layer to light having a wavelength of 300 nm or more, radiating light having a wavelength of 280 nm or more to the first resin layer through the exposed portions of the second resin layer using the unexposed portions of the second resin layer as a mask, thereby exposing the first resin layer to light, and removing the exposed portions of the first resin layer to form a structure.

摘要翻译： 一种结构的制造方法，其特征在于，依次形成由第一树脂层和第二树脂层构成的基板，该第一树脂层依次层叠，所述第一树脂层由对具有波长的光具有正光敏性的正性感光性树脂 280nm以上的第二树脂层和含有蒽化合物的第二树脂层，将第二树脂层部分地暴露于波长为300nm以上的光，通过该第一树脂层向第一树脂层照射波长280nm以上的光 使用第二树脂层的未曝光部分作为掩模使第二树脂层的暴露部分暴露出第一树脂层，并且除去第一树脂层的暴露部分以形成结构。

公开(公告)号：US20130029272A1

公开(公告)日：2013-01-31

申请号：US13639077

申请日：2011-05-20

申请人： Hiroe Ishikura

发明人： Hiroe Ishikura

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： B41J2/1603 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1639 ,  B41J2/1645 ,  G03F1/56 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/095 ,  G03F7/2016

摘要： The present invention provides a process for producing a fine pattern including, (1) forming a first resin layer containing a photosensitive resin on a substrate; (2) forming a second resin layer containing a secondary or tertiary alkynyl alcohol, a photoacid generator, and a resin on the first resin layer; (3) subjecting the second resin layer to pattern exposure; (4)subjecting the first resin layer to exposure using the pattern-exposed portion of the second resin layer as a mask; and (5) removing the second resin layer and the first resin layer.

摘要翻译： 本发明提供一种精细图案的制造方法，其特征在于，包括：（1）在基板上形成含有感光性树脂的第一树脂层; （2）在第一树脂层上形成含有仲或叔炔基醇，光酸产生剂和树脂的第二树脂层; （3）对第二树脂层进行图案曝光; （4）使用第二树脂层的图案曝光部作为掩模对第一树脂层进行曝光; 和（5）除去第二树脂层和第一树脂层。

公开(公告)号：US20110316188A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：US13168668

申请日：2011-06-24

申请人： Hiroe Ishikura

发明人： Hiroe Ishikura

IPC分类号： B29C33/40 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F1/56 ,  G03F7/039

摘要： A method for producing a structure includes, in this order, providing a substrate composed of a first resin layer and a second resin layer laminated in this order, the first resin layer being made of a positive photosensitive resin having positive photosensitivity to light having a wavelength of 280 nm or more, and the second resin layer containing an anthracene compound, partially exposing the second resin layer to light having a wavelength of 300 nm or more, radiating light having a wavelength of 280 nm or more to the first resin layer through the exposed portions of the second resin layer using the unexposed portions of the second resin layer as a mask, thereby exposing the first resin layer to light, and removing the exposed portions of the first resin layer to form a structure.

摘要翻译： 一种结构的制造方法，其特征在于，依次形成由第一树脂层和第二树脂层构成的基板，该第一树脂层依次层叠，所述第一树脂层由对具有波长的光具有正光敏性的正性感光性树脂 280nm以上的第二树脂层和含有蒽化合物的第二树脂层，将第二树脂层部分地暴露于波长为300nm以上的光，通过该第一树脂层向第一树脂层照射波长280nm以上的光 使用第二树脂层的未曝光部分作为掩模使第二树脂层的暴露部分暴露出第一树脂层，并且除去第一树脂层的暴露部分以形成结构。