公开(公告)号：US5168306A

公开(公告)日：1992-12-01

申请号：US863538

申请日：1992-04-06

申请人： Akira Morimoto ,  Satoru Tachihara ,  Yuji Matsui

发明人： Akira Morimoto ,  Satoru Tachihara ,  Yuji Matsui

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F9/7015 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/70358

摘要： An exposure apparatus where a mask table having an exposing pattern and a work to be exposed are relative to each other movable, wherein the moving amount of the mask table is detected by a scale image formed through a projection lens system, so that even if the projection lens system has a magnification error, by optically offsetting it, the moving amount of the mask table can be detected. Thus, a more accurate control can be obtained so that a mask image can be more precisely reproduced on a work.

摘要翻译： 其中具有曝光图案和待曝光的工件的掩模台相对于彼此可移动的曝光装置，其中通过投影透镜系统形成的标尺图像来检测掩模台的移动量，使得即使 投影透镜系统通过光学偏移来具有放大误差，可以检测掩模台的移动量。 因此，可以获得更准确的控制，使得掩模图像可以在工件上更精确地再现。