公开(公告)号：US20090130385A1

公开(公告)日：2009-05-21

申请号：US12008157

申请日：2008-01-08

申请人： Joo-Hyeon Lee ,  Chang-Woong Chu ,  Jin-Koo Chung ,  Jae-Kook Ha

发明人： Joo-Hyeon Lee ,  Chang-Woong Chu ,  Jin-Koo Chung ,  Jae-Kook Ha

IPC分类号： B05D5/12 ,  B32B3/10

CPC分类号： H01L51/0013 ,  Y10T428/24331

摘要： A method of manufacturing a display device includes preparing an acceptor substrate, preparing a donor substrate having an organic layer; aligning and combining the acceptor substrate and the donor substrate, and keeping a temperature difference between the acceptor substrate and the donor substrate to transfer the organic layer to the acceptor substrate. Thus, the present invention provides a display device that can simplify a process and decrease a consumption rate of an organic material.

摘要翻译： 一种制造显示装置的方法包括制备受主衬底，制备具有有机层的施主衬底; 对准和组合受主衬底和施主衬底，并且保持受主衬底和施主衬底之间的温度差以将有机层转移到受主衬底。 因此，本发明提供了一种显示装置，其可以简化工艺并降低有机材料的消耗速率。

公开(公告)号：US06534921B1

公开(公告)日：2003-03-18

申请号：US09708737

申请日：2000-11-09

申请人： Sang-Hun Seo ,  Kyeong-Koo Chi ,  Ji-Soo Kim ,  Chang-Woong Chu ,  Seung-Pil Chung

发明人： Sang-Hun Seo ,  Kyeong-Koo Chi ,  Ji-Soo Kim ,  Chang-Woong Chu ,  Seung-Pil Chung

IPC分类号： H01J724

CPC分类号： H01L21/31138 ,  B08B7/0035 ,  G03F7/427 ,  H05H1/44

摘要： A method of removing metal-containing polymeric material and ion implanted or plasma damaged photoresist from a surface using a plasma jet system, by generating radicals having high energy and high density from atmospheric plasma by introducing a reactant gas to the plasma, and placing the surface at a distance from the plasma, whereby ionic reaction on the surface is minimized while the removing action of the radicals on the surface is maintained.

摘要翻译： 通过使用等离子体喷射系统从表面去除含金属的聚合物材料和离子注入或等离子体损伤的光致抗蚀剂的方法，通过向等离子体引入反应气体，通过从等离子体引入具有高能量和高密度的自由基，并将表面 距离等离子体一定距离，由此表面上的离子反应被最小化，同时维持表面上的自由基的去除作用。