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    Human embryonic lung fibroblast diploid cell strain suitable for the production of virus and process for the production of varicella zoster virus using same
    51.
    发明授权
    Human embryonic lung fibroblast diploid cell strain suitable for the production of virus and process for the production of varicella zoster virus using same 失效
    适用于生产病毒的人类胚胎肺成纤维细胞二倍体细胞株和使用相同产生水痘带状疱疹病毒的方法

    公开(公告)号：US5952227A

    公开(公告)日：1999-09-14

    申请号：US945136

    申请日：1997-10-14

    申请人： Jeong Min Kim ,  Bock Ryeon Park ,  Joo Hong Park

    发明人： Jeong Min Kim ,  Bock Ryeon Park ,  Joo Hong Park

    IPC分类号： A61K39/12 ,  A61K39/25 ,  C12N5/071 ,  C12N7/00 ,  C12N7/02 ,  C12N5/08

    CPC分类号： C12N7/00 ,  A61K39/12 ,  A61K39/25 ,  C12N2710/16734

    摘要： A human embryonic lung fibroblast diploid cell strain LBHEL(KCTC 0127BP) is highly susceptible to varicella zoster virus(VZV). A cell-free varicella zoster virus (VZV) is produced by (a) culturing the human embryonic lung fibroblast diploid cell strain LBHEL(KCTC 0127BP) of claim 1 in a culture vessel to give cultured LBHEL cells; (b) infecting the cultured LBHEL cells with VZV to give VZV-infected cells; (c) culturing and harvesting the VZV-infected cells; (d) disrupting the harvested cells to obtain a cell homogenate; and (e) centrifuging the cell homogenate to obtain a supernatant containing the cell-free VZV.

    摘要翻译： PCT No.PCT / KR97 / 00028 Sec。 371日期1997年10月14日第 102（e）日期1997年10月14日PCT 1997年2月15日提交PCT公布。 公开号WO97 / 30147 日期1997年8月21日人胚胎肺成纤维细胞二倍体细胞株LBHEL（KCTC 0127BP）对水痘带状疱疹病毒（VZV）高度敏感。 通过（a）在培养容器中培养权利要求1的人胚胎肺成纤维细胞二倍体二倍体二倍体细胞株LBHEL（KCTC 0127BP）产生培养的LBHEL细胞，产生无细胞水痘带状疱疹病毒（VZV） （b）用VZV感染培养的LBHEL细胞以得到感染VZV的细胞; （c）培养和收获VZV感染的细胞; （d）破坏收获的细胞以获得细胞匀浆; 和（e）离心细胞匀浆以获得含有无细胞的VZV的上清液。

    Maskless exposure apparatus and stitching exposure method using the same
    52.
    发明授权
    Maskless exposure apparatus and stitching exposure method using the same 有权
    无掩模曝光装置和使用其的缝合曝光方法

    公开(公告)号：US09019471B2

    公开(公告)日：2015-04-28

    申请号：US13064679

    申请日：2011-04-08

    申请人： Jeong Min Kim ,  Sang Don Jang ,  Sang Woo Bae

    发明人： Jeong Min Kim ,  Sang Don Jang ,  Sang Woo Bae

    IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/2051 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70475

    摘要： Disclosed herein are a maskless exposure apparatus configured to perform exposure by tilting a beam spot array with respect to a scan direction (Y-axis direction) thus preventing stitching stripes and a stitching method using the same. A step distance, in which exposure dose uniformity in a stitching area is within a tolerance range, is calculated using actual position data of beam spots constituting the beam spot array on an exposure plane, and if necessary, using beam power data and/or beam size data. As exposure is performed based on image data conforming to the step distance, the stitching area has a uniform exposure dose, enabling exposure without stitching stripes.

    摘要翻译： 这里公开了一种无掩模曝光装置，其被配置为通过相对于扫描方向（Y轴方向）倾斜光束阵列来进行曝光，从而防止缝合条纹和使用其的缝合方法。 使用在曝光平面上构成束斑阵列的光束点的实际位置数据计算缝合区域中的曝光剂量均匀性在公差范围内的步距，并且如果需要，使用光束功率数据和/或光束 大小数据。 当基于符合步距的图像数据进行曝光时，缝合区域具有均匀的曝光量，能够在不缝合条纹的情况下进行曝光。

    Maskless exposure apparatus and stitching exposure method using the same
    54.
    发明申请
    Maskless exposure apparatus and stitching exposure method using the same 有权
    无掩模曝光装置和使用其的缝合曝光方法

    公开(公告)号：US20110267594A1

    公开(公告)日：2011-11-03

    申请号：US13064679

    申请日：2011-04-08

    申请人： Jeong Min Kim ,  Sang Don Jang ,  Sang Woo Bae

    发明人： Jeong Min Kim ,  Sang Don Jang ,  Sang Woo Bae

    IPC分类号： G03B27/54

    CPC分类号： G03F7/2051 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70475

    摘要： Disclosed herein are a maskless exposure apparatus configured to perform exposure by tilting a beam spot array with respect to a scan direction (Y-axis direction) thus preventing stitching stripes and a stitching method using the same. A step distance, in which exposure dose uniformity in a stitching area is within a tolerance range, is calculated using actual position data of beam spots constituting the beam spot array on an exposure plane, and if necessary, using beam power data and/or beam size data. As exposure is performed based on image data conforming to the step distance, the stitching area has a uniform exposure dose, enabling exposure without stitching stripes.

    摘要翻译： 这里公开了一种无掩模曝光装置，其被配置为通过相对于扫描方向（Y轴方向）倾斜光束阵列来进行曝光，从而防止缝合条纹和使用其的缝合方法。 使用在曝光平面上构成束斑阵列的光束点的实际位置数据计算缝合区域中的曝光剂量均匀性在公差范围内的步距，并且如果需要，使用光束功率数据和/或光束 大小数据。 当基于符合步距的图像数据进行曝光时，缝合区域具有均匀的曝光量，能够在不缝合条纹的情况下进行曝光。