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    Maskless exposure apparatus and stitching exposure method using the same
    4.
    发明授权
    Maskless exposure apparatus and stitching exposure method using the same 有权
    无掩模曝光装置和使用其的缝合曝光方法

    公开(公告)号：US09019471B2

    公开(公告)日：2015-04-28

    申请号：US13064679

    申请日：2011-04-08

    申请人： Jeong Min Kim ,  Sang Don Jang ,  Sang Woo Bae

    发明人： Jeong Min Kim ,  Sang Don Jang ,  Sang Woo Bae

    IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/2051 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70475

    摘要： Disclosed herein are a maskless exposure apparatus configured to perform exposure by tilting a beam spot array with respect to a scan direction (Y-axis direction) thus preventing stitching stripes and a stitching method using the same. A step distance, in which exposure dose uniformity in a stitching area is within a tolerance range, is calculated using actual position data of beam spots constituting the beam spot array on an exposure plane, and if necessary, using beam power data and/or beam size data. As exposure is performed based on image data conforming to the step distance, the stitching area has a uniform exposure dose, enabling exposure without stitching stripes.

    摘要翻译： 这里公开了一种无掩模曝光装置，其被配置为通过相对于扫描方向（Y轴方向）倾斜光束阵列来进行曝光，从而防止缝合条纹和使用其的缝合方法。 使用在曝光平面上构成束斑阵列的光束点的实际位置数据计算缝合区域中的曝光剂量均匀性在公差范围内的步距，并且如果需要，使用光束功率数据和/或光束 大小数据。 当基于符合步距的图像数据进行曝光时，缝合区域具有均匀的曝光量，能够在不缝合条纹的情况下进行曝光。

    Maskless Exposure Apparatus
    7.
    发明申请
    Maskless Exposure Apparatus 审中-公开
    无掩模曝光装置

    公开(公告)号：US20120140194A1

    公开(公告)日：2012-06-07

    申请号：US13293445

    申请日：2011-11-10

    申请人： Sang Woo Bae ,  Sang Don Jang

    发明人： Sang Woo Bae ,  Sang Don Jang

    IPC分类号： G03B27/52

    CPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/522 ,  G03F7/70391

    摘要： According to example embodiments, a maskless exposure apparatus includes a light source array including a plurality of light sources, a focusing element array including a plurality of focusing elements, and an image forming lens unit between the focusing element array and a substrate. The focusing element array is configured to perform a first focusing operation to focus light beams emitted from the plurality of light sources. The image forming lens unit is configured to perform a second focusing operation on the focused light beams to form focused light spots on the surface of the substrate. The focused light spots form a pattern on the substrate.

    摘要翻译： 根据示例性实施例，无掩模曝光装置包括包括多个光源的光源阵列，包括多个聚焦元件的聚焦元件阵列，以及在聚焦元件阵列和基底之间的成像透镜单元。 聚焦元件阵列被配置为执行第一聚焦操作以聚焦从多个光源发射的光束。 图像形成透镜单元被配置为对聚焦光束执行第二聚焦操作，以在基板的表面上形成聚焦光点。 聚焦的光斑在基底上形成图案。

    Maskless exposure apparatus and stitching exposure method using the same
    9.
    发明申请
    Maskless exposure apparatus and stitching exposure method using the same 有权
    无掩模曝光装置和使用其的缝合曝光方法

    公开(公告)号：US20110267594A1

    公开(公告)日：2011-11-03

    申请号：US13064679

    申请日：2011-04-08

    申请人： Jeong Min Kim ,  Sang Don Jang ,  Sang Woo Bae

    发明人： Jeong Min Kim ,  Sang Don Jang ,  Sang Woo Bae

    IPC分类号： G03B27/54

    CPC分类号： G03F7/2051 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70475

    摘要： Disclosed herein are a maskless exposure apparatus configured to perform exposure by tilting a beam spot array with respect to a scan direction (Y-axis direction) thus preventing stitching stripes and a stitching method using the same. A step distance, in which exposure dose uniformity in a stitching area is within a tolerance range, is calculated using actual position data of beam spots constituting the beam spot array on an exposure plane, and if necessary, using beam power data and/or beam size data. As exposure is performed based on image data conforming to the step distance, the stitching area has a uniform exposure dose, enabling exposure without stitching stripes.

    摘要翻译： 这里公开了一种无掩模曝光装置，其被配置为通过相对于扫描方向（Y轴方向）倾斜光束阵列来进行曝光，从而防止缝合条纹和使用其的缝合方法。 使用在曝光平面上构成束斑阵列的光束点的实际位置数据计算缝合区域中的曝光剂量均匀性在公差范围内的步距，并且如果需要，使用光束功率数据和/或光束 大小数据。 当基于符合步距的图像数据进行曝光时，缝合区域具有均匀的曝光量，能够在不缝合条纹的情况下进行曝光。

    Digital Exposure Method and Digital Exposure Device for Performing the Method
    10.
    发明申请
    Digital Exposure Method and Digital Exposure Device for Performing the Method 有权
    用于执行该方法的数字曝光方法和数字曝光装置

    公开(公告)号：US20110205508A1

    公开(公告)日：2011-08-25

    申请号：US12906623

    申请日：2010-10-18

    申请人： Sang-Hyun Yun ,  Hi-Kuk Lee ,  Sang-Woo Bae ,  Cha-Dong Kim ,  Jung-In Park

    发明人： Sang-Hyun Yun ,  Hi-Kuk Lee ,  Sang-Woo Bae ,  Cha-Dong Kim ,  Jung-In Park

    IPC分类号： G03B27/52

    CPC分类号： G03B27/526 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70541

    摘要： A digital exposure method and a digital exposure device for performing the method are disclosed. In the method, a graphic data system file is produced in correspondence with each of a plurality of patterns formed on a substrate. Then, a digital micromirror device on/off data is generated from the graphic data system file. Then, the substrate is exposed in response to the digital micromirror device on/off data. Thus, at least a first exposure for forming a first pattern of a display panel, and a second exposure for forming identification numbers of a substrate and each display panel and removing an edge portion of the substrate may be simultaneously performed, to simplify the exposure process decrease costs.

    摘要翻译： 公开了一种用于执行该方法的数字曝光方法和数字曝光装置。 在该方法中，与形成在基板上的多个图案中的每一个对应地生成图形数据系统文件。 然后，从图形数据系统文件生成数字微镜装置开/关数据。 然后，响应于数字微镜装置的开/关数据曝光基板。 因此，可以同时执行用于形成显示面板的第一图案的第一曝光和用于形成基板和每个显示面板的识别号和去除基板的边缘部分的第二曝光，以简化曝光过程 降低成本