公开(公告)号：US20060138076A1

公开(公告)日：2006-06-29

申请号：US10536890

申请日：2003-12-18

申请人： Philippe Robert ,  France Michel ,  Catherine Maeder-Pachurka ,  Nicolas Sillon

发明人： Philippe Robert ,  France Michel ,  Catherine Maeder-Pachurka ,  Nicolas Sillon

IPC分类号： B44C1/22

CPC分类号： G01R3/00 ,  B33Y80/00 ,  B81B2203/0118 ,  B81C1/00611 ,  B81C2201/0108 ,  B81C2201/0125 ,  G01R1/0483 ,  G01R1/06711 ,  G01R1/06716 ,  G01R1/06727 ,  G01R1/06733 ,  G01R1/07342 ,  H01L23/4822 ,  H01L24/72 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01011 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01015 ,  H01L2924/01023 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01027 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/0103 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01042 ,  H01L2924/01046 ,  H01L2924/01057 ,  H01L2924/01072 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/01075 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/3025 ,  H01R12/52 ,  H01R13/24 ,  H01R13/2407 ,  H05K3/4092 ,  H05K7/1069 ,  H01L2924/00

摘要： Production process of a flat suspended micro-structure using a sacrificial layer of polymer material and component obtained thereby The process successively comprises deposition of a sacrificial layer (2) of polymer material, deposition, on at least a part of the substrate (1) and of the front face of the sacrificial layer (2), of an embedding layer (6), the thickness whereof is larger than that of the sacrificial layer (2), and planarization so that the front faces of the sacrificial layer (2) and of the embedding layer (6) form a common flat surface. A formation layer (3) of a suspended structure (5) is deposited on the front face of the common flat surface. Planarization can comprise chemical mechanical polishing and etching of the embedding layer (6). Etching of the sacrificial layer (2) can be performed by means of a mask formed on the front face of a layer of polymer material eliminated during the planarization step.

摘要翻译： 使用聚合物材料的牺牲层和由此获得的部件的扁平悬浮微结构的制造方法该方法依次包括在基底（1）的至少一部分上沉积聚合物材料的牺牲层（2），沉积 （2）的牺牲层（2）的前表面，其厚度大于牺牲层（2）的厚度，并且平坦化，使得牺牲层（2）的前表面和 的嵌入层（6）形成共同的平坦表面。 悬挂结构（5）的形成层（3）沉积在公共平坦表面的前表面上。 平面化可以包括化学机械抛光和蚀刻嵌入层（6）。 牺牲层（2）的蚀刻可以通过形成在平坦化步骤期间消除的聚合物材料层的正面上的掩模进行。