公开(公告)号：US5885734A

公开(公告)日：1999-03-23

申请号：US689932

申请日：1996-08-15

申请人： Christophe Pierrat ,  Chin Aik Le

发明人： Christophe Pierrat ,  Chin Aik Le

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03F1/26 ,  G03F1/36 ,  G03F9/00 ,  H01J37/302

CPC分类号： G03F1/26 ,  G03F1/36

摘要： A binary mask layout design arranged hierarchically to include a plurality of levels is modified to include optical proximity effect corrections or phase shifting layers. This is accomplished by beginning at the lowest level of the hierarchy and modifying elements or cells in the design. Any modifications that are uniform to corresponding cells throughout the level are placed in the same level in the hierarchy. Any modifications that apply only to selected cells in the level are placed in a higher level in the hierarchy. The process is repeated for all levels in the hierarchy.

摘要翻译： 分层布置以包括多个级别的二进制掩模布局设计被修改为包括光学邻近效应校正或相移层。 这是通过从层次结构的最底层开始并修改设计中的元素或单元来实现的。 对整个级别的相应单元格均匀的任何修改都将放置在层次结构中的相同级别中。 仅适用于级别中所选单元格的任何修改都将放置在层次结构中的较高级别中。 对于层次结构中的所有级别重复该过程。

公开(公告)号：US5801954A

公开(公告)日：1998-09-01

申请号：US637307

申请日：1996-04-24

申请人： Chin Aik Le ,  Christophe Pierrat

发明人： Chin Aik Le ,  Christophe Pierrat

IPC分类号： G01N21/956 ,  G03F1/00 ,  G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G01N2021/95676 ,  G01N21/956

摘要： A process for designing and checking a mask layout is provided. A mask layout is generated from a binary mask layout design. An aerial image of the mask layout is then calculated using simulation software. The simulated aerial image is then compared to the binary mask layout design and modifications are made to the mask layout if necessary.

摘要翻译： 提供了一种用于设计和检查掩模布局的过程。 从二进制掩码布局设计生成掩码布局。 然后使用模拟软件计算掩模布局的空中图像。 然后将模拟的航空图像与二进制掩模布局设计进行比较，如果需要，对掩模布局进行修改。