公开(公告)号：US07397940B2

公开(公告)日：2008-07-08

申请号：US09777460

申请日：2001-02-08

申请人： Marcus J. H. Willems van Dijk ,  Engelbertus A. F. van de Pasch ,  Thomas J. M. Castenmiller ,  Andreas B. G. Ariens

发明人： Marcus J. H. Willems van Dijk ,  Engelbertus A. F. van de Pasch ,  Thomas J. M. Castenmiller ,  Andreas B. G. Ariens

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F9/7011

摘要： A method for placement of a object such as a substrate or a mask on a table, said method including: a first placement step in which the object is placed on a first position on the table; a measuring step in which a displacement between the first position of the object and the required position of the object is determined; a removing step in which the object is released and removed from the table; a moving step in which the object and the table are moved relatively to each other by substantially the said displacement, in a direction substantially parallel to the surface of the table; and a second placement step in which the object is placed at the required position on the table.

摘要翻译： 一种用于将诸如基板或掩模的物体放置在桌子上的方法，所述方法包括：第一放置步骤，其中物体放置在桌子上的第一位置; 测量步骤，其中确定所述物体的所述第一位置与所述物体的所需位置之间的位移; 去除步骤，其中对象被释放并从表中移除; 移动步骤，其中所述物体和所述桌子在基本上平行于所述工作台的表面的方向上相对于所述位移相对移动; 以及第二放置步骤，其中物体被放置在桌子上的所需位置。

公开(公告)号：US06392738B1

公开(公告)日：2002-05-21

申请号：US09684959

申请日：2000-10-10

申请人： Engelbertus A. F. van de Pasch ,  Aschwin L. H. J. van Meer ,  Franciscus A. G. Klaassen

发明人： Engelbertus A. F. van de Pasch ,  Aschwin L. H. J. van Meer ,  Franciscus A. G. Klaassen

IPC分类号： G03B2752

CPC分类号： G03F7/707 ,  G01N21/94 ,  G03F7/70916

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The lithographic projection apparatus includes an illumination system to supply a projection beam of radiation, a first object table to hold a mask, a second object table provided with a support surface to support and hold a substrate at its backside surface and a projection system to image an irradiated portion of the mask onto a target portion of the substrate including a detector constructed and arranged to detect the presence of contamination on one or both of the support surface and the substrate backside surface.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 光刻投影装置包括：照射系统，用于提供投影射线束;第一物体台，用于保持掩模;第二物镜台，设置有支撑表面，以支撑并保持其背面的基板;以及投影系统， 所述掩模的照射部分到所述基板的目标部分上，包括构造和布置成检测所述支撑表面和所述基板背面中的一个或两个上的污染物的存在的检测器。

公开(公告)号：US06498350B2

公开(公告)日：2002-12-24

申请号：US09739106

申请日：2000-12-19

申请人： Yim Bun P. Kwan ,  Engelbertus A. F. van de Pasch ,  Andreas B. G. Ariens ,  Edwin J. Buis ,  Jan F. Hoogkamp ,  Robert-Han Munnig Schmidt

发明人： Yim Bun P. Kwan ,  Engelbertus A. F. van de Pasch ,  Andreas B. G. Ariens ,  Edwin J. Buis ,  Jan F. Hoogkamp ,  Robert-Han Munnig Schmidt

IPC分类号： H01J3713

CPC分类号： G03F7/70733 ,  G03F7/70716

摘要： In a multi-table lithographic apparatus in which substrate tables may be exchanged between a first working zone where substrates are loaded onto and removed from the table and a second working zones where wafers are exposed, collision prevention means are provided to prevent collisions between tables in the exchange process. The collision prevention means may be formed of a labyrinth or a revolving door. The exchange process may be controlled by shuttles, optionally including drive means, that are interlinked so that the tables can only be exchanged between zones together.

摘要翻译： 在其中衬底台可以在其中将基板装载到桌子上并从桌子上移除的第一工作区域和其中晶片暴露的第二工作区域之间进行交换的多工位平版印刷设备中，提供了防止碰撞的装置， 交流过程。 碰撞防止装置可以由迷宫式或旋转门形成。 交换过程可以通过彼此连接的梭子（可选地包括驱动装置）来控制，使得表只能在区域之间交换。