公开(公告)号：US06793561B2

公开(公告)日：2004-09-21

申请号：US09948165

申请日：2001-09-06

申请人： David P. Bachand ,  Stuart D. Cheney ,  Harman S. Garvatt ,  Charles A. McKinney

发明人： David P. Bachand ,  Stuart D. Cheney ,  Harman S. Garvatt ,  Charles A. McKinney

IPC分类号： B24B5300

CPC分类号： B24B37/14 ,  B24B37/013

摘要： The present invention comprises a chemical mechanical polishing tool comprising a polishing platen and a removable, replaceable platen top mounted on a top surface of the platen. Preferably, the platen top comprises a material substantially impervious to the slurries used when planarizing an object. Most preferably, the platen top comprises aluminum alloy or glass. The platen top may be tailored to provide enhanced polishing conditions by acting as an insulator, a conductor or machined to be concave or convex. The invention may further include endpoint sensors attached to the platen top.

摘要翻译： 本发明包括一种化学机械抛光工具，其包括抛光压板和安装在压板的顶表面上的可移除的可替换的压板顶板。 优选地，压板顶部包括当平坦化物体时使用的浆料基本上不可渗透的材料。 最优选地，压板顶部包括铝合金或玻璃。 压板顶部可以被调整为通过充当绝缘体，导体或机械加工成凹凸的方式提供增强的抛光条件。 本发明还可以包括附接到压板顶部的端点传感器。