公开(公告)号：US4521082A

公开(公告)日：1985-06-04

申请号：US401895

申请日：1982-07-26

申请人： Akiyoshi Suzuki ,  Hirosi Sato ,  Takashi Omata ,  Masao Kosugi

发明人： Akiyoshi Suzuki ,  Hirosi Sato ,  Takashi Omata ,  Masao Kosugi

IPC分类号： G03B27/32 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G02F1/01

CPC分类号： G03F9/7065 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70875 ,  G03F9/00

摘要： An exposure apparatus includes a reticle provided with at least one mark, and operates on a wafer provided with at least one mark. The apparatus further includes a projection optical system for optically conjugately relating the reticle to the wafer, a mark detecting apparatus for detecting the mark of the reticle and detecting the mark of the wafer through the projection optical system, an illuminator for illuminating the wafer with a sensitizing light, and a phase converting element fixed between the wafer and the reticle for varying the direction of polarization of a light coming from the mark provided on the wafer.

摘要翻译： 曝光装置包括设置有至少一个标记的掩模版，并且在设置有至少一个标记的晶片上操作。 该装置还包括用于将掩模版光学共轭地连接到晶片的投影光学系统，用于检测标线的标记并通过投影光学系统检测晶片的标记的标记检测装置，用于通过投影光学系统照亮晶片的照明器 以及固定在晶片和掩模版之间的相变元件，用于改变来自设置在晶片上的标记的光的偏振方向。