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公开(公告)号：US08365107B2
公开(公告)日：2013-01-29
申请号：US12521651
申请日：2008-01-16
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G03F1/36 , G03F1/144 , G03F1/68 , G06F17/50 , G06F17/5081
摘要： A modeling technique is provided. The modeling technique includes inputting tool parameters into a model and inputting basic model parameters into the model. The technique further includes generating a simulated, corrected reticle design using the tool parameters and the basic model parameters. An image of test patterns for an integrated circuit is compared against the simulated, corrected reticle design. A determination is made as to whether a difference between the simulated, corrected reticle design and exposure results of the image of the test patterns (δ1) is less than a predetermined criteria (ε1). The technique further includes completing the model the difference between the simulated, corrected reticle design and the exposure results of the image of the test patterns is less than the predetermined criteria.
摘要翻译： 提供了一种建模技术。 建模技术包括将工具参数输入到模型中，并将基本模型参数输入到模型中。 该技术还包括使用工具参数和基本模型参数生成模拟，校正的掩模版设计。 将集成电路的测试图案的图像与模拟的校正的掩模版设计进行比较。 确定模拟，校正的掩模版设计与测试图案的图像（δ1）的曝光结果之间的差是否小于预定标准（＆amp; 1）。 该技术还包括完成模型，模拟，校正的掩模版设计与测试图案的图像的曝光结果之间的差小于预定标准。
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公开(公告)号：US20100058263A1
公开(公告)日：2010-03-04
申请号：US12521651
申请日：2008-01-16
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G03F1/36 , G03F1/144 , G03F1/68 , G06F17/50 , G06F17/5081
摘要： A modeling technique is provided. The modeling technique includes inputting tool parameters into a model and inputting basic model parameters into the model. The technique further includes generating a simulated, corrected reticle design using the tool parameters and the basic model parameters. An image of test patterns is compared against the simulated, corrected reticle design. A determination is made as to whether δ1
摘要翻译： 提供了一种建模技术。 建模技术包括将工具参数输入到模型中，并将基本模型参数输入到模型中。 该技术还包括使用工具参数和基本模型参数生成模拟，校正的掩模版设计。 将测试图案的图像与模拟，校正的掩模版设计进行比较。 确定δ1<＆egr; -1，其中δ1表示模型与曝光差异，＆egr -1表示预定标准。 该技术还包括当δ1<＆egr -1时完成模型。
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