公开(公告)号：US08775978B2

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：US13160173

申请日：2011-06-14

申请人： Jea-Woo Park

发明人： Jea-Woo Park

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70

摘要： A system for preparing mask data to create a desired layout pattern on a wafer with a multiple exposure photolithographic printing system. In one embodiment, boundaries of features are expanded to create shields for those features, or portions thereof, that are not oriented in a direction that are printed with greater fidelity by an illumination pattern used in the multiple exposure printing system.

摘要翻译： 一种用于利用多曝光光刻打印系统制备掩模数据以在晶片上产生所需布局图案的系统。 在一个实施例中，特征的边界被扩展以为那些不是以通过在多重曝光打印系统中使用的照明图案更加保真地打印的方向定向的那些特征或其部分而形成屏蔽。

公开(公告)号：US08209642B2

公开(公告)日：2012-06-26

申请号：US13160366

申请日：2011-06-14

申请人： Jea-Woo Park

发明人： Jea-Woo Park

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70

摘要： A system for preparing mask data to create a desired layout pattern on a wafer with a multiple exposure photolithographic printing system. In one embodiment, boundaries of features are expanded to create shields for those features, or portions thereof, that are not oriented in a direction that are printed with greater fidelity by an illumination pattern used in the multiple exposure printing system.

摘要翻译： 一种用于利用多曝光光刻打印系统制备掩模数据以在晶片上产生所需布局图案的系统。 在一个实施例中，特征的边界被扩展以为那些不是以通过在多重曝光打印系统中使用的照明图案更加保真地打印的方向定向的那些特征或其部分而形成屏蔽。

公开(公告)号：US07966585B2

公开(公告)日：2011-06-21

申请号：US11610414

申请日：2006-12-13

申请人： Jea-Woo Park

发明人： Jea-Woo Park

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70

摘要： A system for preparing mask data to create a desired layout pattern on a wafer with a multiple exposure photolithographic printing system. In one embodiment, boundaries of features are expanded to create shields for those features, or portions thereof, that are not oriented in a direction that are printed with greater fidelity by an illumination pattern used in the multiple exposure printing system.

摘要翻译： 一种用于利用多曝光光刻打印系统制备掩模数据以在晶片上产生所需布局图案的系统。 在一个实施例中，特征的边界被扩展以为那些不是以通过在多重曝光打印系统中使用的照明图案更加保真地打印的方向定向的那些特征或其部分而形成屏蔽。

公开(公告)号：US07802226B2

公开(公告)日：2010-09-21

申请号：US11621077

申请日：2007-01-08

申请人： Jea-Woo Park ,  Emile Y. Sahouria

发明人： Jea-Woo Park ,  Emile Y. Sahouria

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/70 ,  G03F1/68

摘要： A method for preparing data to create two or more masks required to print a desired feature pattern with a multiple mask technique. In one embodiment of the invention, a target feature pattern is separated into two or more groups or data layers with a coloring algorithm. Coloring conflicts or adjacent features that are within a predetermined distance of each other and are assigned to the same group or data layer are identified. Cutting boxes are added to a feature to divide a feature into two or more smaller features. A coloring algorithm is re-applied to the layout including the cutting boxes to assign the features into different groups or data layers. Data in each group or data layer is used to define a mask to print the target feature pattern.

摘要翻译： 一种用于制备数据以创建用多重掩模技术打印所需特征图案所需的两个或更多个掩模的方法。 在本发明的一个实施例中，目标特征图案被分成具有着色算法的两个或多个组或数据层。 识别彼此在预定距离内并被分配给相同组或数据层的着色冲突或相邻特征。 将切割箱添加到特征中以将特征分成两个或更多个较小的特征。 着色算法重新应用于包括切割框的布局，以将特征分配到不同的组或数据层。 每个组或数据层中的数据用于定义一个掩码以打印目标特征图案。

公开(公告)号：US20080148217A1

公开(公告)日：2008-06-19

申请号：US11610414

申请日：2006-12-13

申请人： Jea-Woo Park

发明人： Jea-Woo Park

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70

摘要： A system for preparing mask data to create a desired layout pattern on a wafer with a multiple exposure photolithographic printing system. In one embodiment, boundaries of features are expanded to create shields for those features, or portions thereof, that are not oriented in a direction that are printed with greater fidelity by an illumination pattern used in the multiple exposure printing system.

摘要翻译： 一种用于利用多曝光光刻打印系统制备掩模数据以在晶片上产生所需布局图案的系统。 在一个实施例中，特征的边界被扩展以为那些不是以通过在多重曝光打印系统中使用的照明图案更加保真地打印的方向定向的那些特征或其部分而形成屏蔽。

公开(公告)号：US20080002327A1

公开(公告)日：2008-01-03

申请号：US11587413

申请日：2006-07-24

申请人： Jea Woo ,  Jin Huh ,  Seungjoon Ahn ,  Seong Ahn ,  Chul Geun Park ,  Ho Sub Son ,  Jin Seok Jin ,  Hyung Gu Jeon

发明人： Jea Woo ,  Jin Huh ,  Seungjoon Ahn ,  Seong Ahn ,  Chul Geun Park ,  Ho Sub Son ,  Jin Seok Jin ,  Hyung Gu Jeon

IPC分类号： H05F3/02

CPC分类号： H01R4/66

摘要： An earthing device which needs not be buried under the ground is provided. The earthing device includes an earthing panel and a discharging device mounted inside the earthing panel. The discharging device includes at least one electrode plate, multiple discharging electrodes coupled to the electrode plate, and catalyst filled between the discharging electrodes. Since an earth electrode needs not be buried under the ground, it requires less construction costs, time and area, and environmental pollution (especially, soil pollution) does not happen. Further, the earthing device can be simply and economically installed regardless of place.

摘要翻译： 提供一种不需要埋在地下的接地装置。 接地装置包括接地面板和安装在接地面板内的放电装置。 放电装置包括至少一个电极板，耦合到电极板的多个放电电极和填充在放电电极之间的催化剂。 由于地电极不需要埋在地下，所以施工成本较低，时间和面积小，不会发生环境污染（特别是土壤污染）。 此外，无论地点如何，接地装置都可以简单且经济地安装。

公开(公告)号：US07123475B2

公开(公告)日：2006-10-17

申请号：US10730090

申请日：2003-12-09

申请人： Jea-woo Park

发明人： Jea-woo Park

IPC分类号： G06F1/16 ,  H01R4/66

CPC分类号： G06F1/26 ,  G06F1/1632 ,  H01R31/02 ,  H02M7/003

摘要： An AC/DC adapter having a main body for converting AC power into DC power and a DC power cable connected to the adapter main body. A power supplying jack is provided at an end of the DC power cable and connected to a connection port of one of a plurality of electronic devices constituting an electronic system to supply DC power therethrough. At least one grounding cable branches off from the DC power cable and forms a grounding path. A grounding jack is provided at an end of the grounding cable and is connected to a connection port of another electronic device of the plurality of the electronic devices to connect the grounding cable and a grounding area of the another electronic device of the plurality of the electronic devices.

摘要翻译： 具有用于将AC电力转换为DC电力的主体的AC / DC适配器和连接到适配器主体的DC电力电缆。 电源插座设置在直流电力电缆的一端并连接到构成电子系统的多个电子设备之一的连接端口，以提供直流电力。 至少有一根接地电缆从直流电源线分支，形成接地路径。 接地插座设置在接地电缆的一端，并连接到多个电子设备的另一个电子设备的连接端口，以将接地电缆和多个电子设备的另一个电子设备的接地区域 设备。

公开(公告)号：US08379065B2

公开(公告)日：2013-02-19

申请号：US10564178

申请日：2003-09-30

申请人： Gi-Seon Nam ,  Choong-Hwan Lee ,  Hwang-Seok Oh ,  Kyeong-Ryeol Park ,  Jea-Woo Ahn

发明人： Gi-Seon Nam ,  Choong-Hwan Lee ,  Hwang-Seok Oh ,  Kyeong-Ryeol Park ,  Jea-Woo Ahn

IPC分类号： G09G5/02

CPC分类号： G06F3/14 ,  G06F17/30905 ,  G09G5/346 ,  G09G5/39 ,  G09G2330/04 ,  G09G2340/02 ,  G09G2340/0407 ,  G09G2340/145 ,  H04M1/72544

摘要： The present invention discloses a method for displaying a high resolution picture in a mobile communication terminal having a low resolution display means, the mobile communication terminal and a system for converting a picture file format therefor. The method for displaying the high resolution picture in the mobile communication terminal includes the steps of: dividing picture data into a plurality of unit blocks, and converting the picture data into a picture file format including the plurality of unit block picture data and indexes for access to each of the block picture data; extracting minimum unit block picture data composing a partial picture which will be initially outputted to a display unit from the picture file by using the index information of the picture file format, and outputting the initial picture; and extracting the corresponding unit block picture data from the picture file in the movement direction by using the index information of the picture file format in accordance with generation of scroll action during the display of the picture, and outputting the position-moved picture.

摘要翻译： 本发明公开了一种在具有低分辨率显示装置的移动通信终端中显示高分辨率图像的方法，移动通信终端和用于转换其图像文件格式的系统。 用于在移动通信终端中显示高分辨率图像的方法包括以下步骤：将图像数据分割为多个单位块，并将图像数据转换为包括多个单位块图像数据和用于存取的索引的图像文件格式 对于每个块图像数据; 通过使用图像文件格式的索引信息来提取构成最初从图像文件输出到显示单元的部分图像的最小单位块图像数据，并输出初始图像; 并且根据图像显示期间的滚动动作的产生，通过使用图像文件格式的索引信息，在移动方向上从图像文件中提取对应的单位块图像数据，并输出位置移动图像。

公开(公告)号：US20110252385A1

公开(公告)日：2011-10-13

申请号：US13160173

申请日：2011-06-14

申请人： Jea-Woo Park

发明人： Jea-Woo Park

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70

摘要： A system for preparing mask data to create a desired layout pattern on a wafer with a multiple exposure photolithographic printing system. In one embodiment, boundaries of features are expanded to create shields for those features, or portions thereof, that are not oriented in a direction that are printed with greater fidelity by an illumination pattern used in the multiple exposure printing system.

摘要翻译： 一种用于利用多曝光光刻打印系统制备掩模数据以在晶片上产生所需布局图案的系统。 在一个实施例中，特征的边界被扩展以为那些不是以通过在多重曝光打印系统中使用的照明图案更加保真地打印的方向定向的那些特征或其部分而形成屏蔽。

公开(公告)号：US20110246953A1

公开(公告)日：2011-10-06

申请号：US13160366

申请日：2011-06-14

申请人： Jea-Woo Park

发明人： Jea-Woo Park

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F7/70466 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70

摘要： A system for preparing mask data to create a desired layout pattern on a wafer with a multiple exposure photolithographic printing system. In one embodiment, boundaries of features are expanded to create shields for those features, or portions thereof, that are not oriented in a direction that are printed with greater fidelity by an illumination pattern used in the multiple exposure printing system.