公开(公告)号：US4737425A

公开(公告)日：1988-04-12

申请号：US872584

申请日：1986-06-10

申请人： Burn J. Lin ,  Bea-Jane L. Yang ,  Jer-Mind Yang

发明人： Burn J. Lin ,  Bea-Jane L. Yang ,  Jer-Mind Yang

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03F1/08 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03C3/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/38 ,  G03F7/405

摘要： A patterned image including on a substrate, a patterned image of a first resist polymeric material and patterned image of a second and different resist material on the first resist polymeric material. The polymeric material contains reactive hydrogen functional groups and/or reactive hydrogen precursor groups. At least the surface layer of the delineated and uncovered first resist polymer material is reacted with a multifunctional organometallic material containing at least two functional groups that are reactive with the functional groups of the polymeric material.

摘要翻译： 包括在衬底上的图案化图像，第一抗蚀聚合物材料的图案化图像和在第一抗蚀剂聚合物材料上的第二和不同抗蚀剂材料的图案化图像。 聚合物材料包含反应性氢官能团和/或反应性氢前体基团。 至少所描绘和未覆盖的第一抗蚀剂聚合物材料的表面层与含有至少两个与聚合物材料的官能团反应的官能团的多官能有机金属材料反应。