公开(公告)号：US08128793B2

公开(公告)日：2012-03-06

申请号：US12226364

申请日：2007-04-11

申请人： Hajime Nakamura ,  Mayako Taniguchi ,  Koji Ishino ,  Takaaki Shindou ,  Junichirou Tsutsui ,  Yukio Kikuchi ,  Kazuya Saitou

发明人： Hajime Nakamura ,  Mayako Taniguchi ,  Koji Ishino ,  Takaaki Shindou ,  Junichirou Tsutsui ,  Yukio Kikuchi ,  Kazuya Saitou

IPC分类号： C23C14/00

CPC分类号： C23C14/568 ,  B65G49/061 ,  B65G49/066 ,  B65G49/067 ,  B65G2249/02 ,  B65G2249/04 ,  C23C14/50 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68721 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68778

摘要： To provide a vertical substrate transfer apparatus and a film-forming apparatus capable of, regardless of a carrying position of a substrate, subjecting either surface thereof to film-formation, and capable of supporting and carrying the substrate without interfering with a non-film-forming surface.A film-forming apparatus (1) according to the present invention includes a carrier (15) giving support so that either surface of a substrate (W) is processable, a first position changing section (3) changing a carrying position of the carrier (15), and a carrying chamber (9) housing the carrier, whose position is changed therein and which carries the carrier to a film-forming chamber (10). With the above construction, it becomes possible to subject either surface to film-forming processing regardless of the carrying position of the substrate (W). Further, it becomes possible to change a film-forming surface (Wa) in the course of carrying the substrate (W). Furthermore, it becomes possible to support the substrate (W) without causing the carrier (15) to interfere with a non-film-forming surface of the substrate (W).

摘要翻译： 为了提供一种垂直的基板转印装置和成膜装置，其能够不管基板的承载位置如何，使其任一表面成膜，并能够支撑和承载基板而不会妨碍非薄膜形成装置， 形成表面。 根据本发明的成膜设备（1）包括：载体（15），其提供支撑，使得基板（W）的任一表面是可处理的，第一位置改变部分（3）改变载体的承载位置 15），以及容纳所述载体的承载室（9），其位置在其中改变并将载体运送到成膜室（10）。 利用上述结构，无论基板（W）的承载位置如何，都可以使表面进行成膜处理。 此外，可以在承载基板（W）的过程中改变成膜表面（Wa）。 此外，可以在不使载体（15）干涉基板（W）的非成膜表面的情况下支撑基板（W）。

公开(公告)号：US20090139864A1

公开(公告)日：2009-06-04

申请号：US12226364

申请日：2007-04-11

申请人： Hajime Nakamura ,  Mayako Taniguchi ,  Koji Ishino ,  Takaaki Shindou ,  Junichirou Tsutsui ,  Yukio Kikuchi ,  Kazuya Saitou

发明人： Hajime Nakamura ,  Mayako Taniguchi ,  Koji Ishino ,  Takaaki Shindou ,  Junichirou Tsutsui ,  Yukio Kikuchi ,  Kazuya Saitou

IPC分类号： C23C14/56 ,  C23C14/50

CPC分类号： C23C14/568 ,  B65G49/061 ,  B65G49/066 ,  B65G49/067 ,  B65G2249/02 ,  B65G2249/04 ,  C23C14/50 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68721 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68778

摘要： To provide a vertical substrate transfer apparatus and a film-forming apparatus capable of, regardless of a carrying position of a substrate, subjecting either surface thereof to film-formation, and capable of supporting and carrying the substrate without interfering with a non-film-forming surface.A film-forming apparatus (1) according to the present invention includes a carrier (15) giving support so that either surface of a substrate (W) is processable, a first position changing section (3) changing a carrying position of the carrier (15), and a carrying chamber (9) housing the carrier, whose position is changed therein and which carries the carrier to a film-forming chamber (10). With the above construction, it becomes possible to subject either surface to film-forming processing regardless of the carrying position of the substrate (W). Further, it becomes possible to change a film-forming surface (Wa) in the course of carrying the substrate (W). Furthermore, it becomes possible to support the substrate (W) without causing the carrier (15) to interfere with a non-film-forming surface of the substrate (W).

摘要翻译： 为了提供一种垂直的基板转印装置和成膜装置，其能够不管基板的承载位置如何，使其任一表面成膜，并能够支撑和承载基板而不会妨碍非薄膜形成装置， 形成表面。 根据本发明的成膜设备（1）包括：载体（15），其提供支撑，使得基板（W）的任一表面是可处理的，第一位置改变部分（3）改变载体的承载位置 15），以及容纳所述载体的承载室（9），其位置在其中改变并将载体运送到成膜室（10）。 利用上述结构，无论基板（W）的承载位置如何，都可以使表面进行成膜处理。 此外，可以在承载基板（W）的过程中改变成膜表面（Wa）。 此外，可以在不使载体（15）干涉基板（W）的非成膜表面的情况下支撑基板（W）。