专利检索 ap:"Keishi Ono" 第 1 页

1.

发明申请
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERNED CURED FILM AND ELECTRONIC COMPONENT 有权
标题翻译：正型感光树脂组合物，生产图案固化膜和电子元件的方法

公开(公告)号：US20120288798A1

公开(公告)日：2012-11-15

申请号：US13522817

申请日：2011-01-18

申请人： Masashi Kotani , Masayuki Ooe , Taku Konno , Tomonori Minegishi , Keishi Ono

发明人： Masashi Kotani , Masayuki Ooe , Taku Konno , Tomonori Minegishi , Keishi Ono

IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/40

摘要： A positive photosensitive resin composition including:(a) a resin capable of being dissolved in an aqueous alkaline solution; (b) a compound having two or more oxetanyl groups; (c) a diazonaphthoquinone compound; and (d) a solvent.

摘要翻译： 一种正型感光性树脂组合物，其包含：（a）能够溶解在碱性水溶液中的树脂; （b）具有两个以上氧杂环丁烷基的化合物; （c）重氮萘醌化合物; 和（d）溶剂。

2.

发明授权
Positive photosensitive resin composition, method for producing patterned cured film and electronic component 有权
标题翻译：正型感光性树脂组合物，图案化固化膜和电子部件的制造方法

公开(公告)号：US09134608B2

公开(公告)日：2015-09-15

申请号：US13522817

申请日：2011-01-18

申请人： Masashi Kotani , Masayuki Ooe , Taku Konno , Tomonori Minegishi , Keishi Ono

发明人： Masashi Kotani , Masayuki Ooe , Taku Konno , Tomonori Minegishi , Keishi Ono

IPC分类号： G03F7/023 , G03F7/40 , G03F7/022

CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/40

摘要： A positive photosensitive resin composition including: (a) a resin capable of being dissolved in an aqueous alkaline solution; (b) a compound having two or more oxetanyl groups; (c) a diazonaphthoquinone compound; and (d) a solvent.

摘要翻译： 一种正型感光性树脂组合物，其包含：（a）能够溶解在碱性水溶液中的树脂; （b）具有两个以上氧杂环丁烷基的化合物; （c）重氮萘醌化合物; 和（d）溶剂。