公开(公告)号：US06664029B1

公开(公告)日：2003-12-16

申请号：US09582557

申请日：2000-08-30

申请人： Genji Imai ,  Kengo Ohnishi ,  Hiroyuki Honma ,  Hideo Kogure

发明人： Genji Imai ,  Kengo Ohnishi ,  Hiroyuki Honma ,  Hideo Kogure

IPC分类号： G03F700

CPC分类号： H01J11/44 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/094 ,  G03F7/30 ,  H05K1/0306 ,  H05K3/28 ,  H05K2203/0585

摘要： A pattern-forming method which comprises the following steps: (1) laminating an actinic ray-curable coating film layer onto the surface of an insulating film-forming resin layer. (2) irradiating directly or through a photomask an actinic ray or host wave thereonto so as to obtain a predetermined pattern. (3) subjecting the actinic ray-curable coating film layer to a developing treatment to form a resist pattern coating film consisting of the actinic ray-curable coating film layer, (4) and subjecting the insulating film-forming resin layer to a developing treatment, followed by removing.

摘要翻译： 一种图案形成方法，包括以下步骤：（1）将光化学射线固化涂膜层层压到绝缘膜形成树脂层的表面上;（2）直接或通过光掩模照射光化射线或主波 （3）使光化学射线固化性涂膜进行显影处理，形成由光化固化性涂膜层构成的抗蚀剂图案涂膜，（4），对绝缘体 成膜树脂层进行显影处理，然后除去。