公开(公告)号：US20120015857A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：US13146438

申请日：2010-01-26

申请人： Tianniu Chen ,  Steven Bilodeau ,  Karl E. Boggs ,  Ping Jiang ,  Michael B. Korzenski ,  George Mirth ,  Kim Y. Van Berkel

发明人： Tianniu Chen ,  Steven Bilodeau ,  Karl E. Boggs ,  Ping Jiang ,  Michael B. Korzenski ,  George Mirth ,  Kim Y. Van Berkel

IPC分类号： C11D3/60 ,  C11D3/44 ,  C11D3/43

CPC分类号： C11D11/0041 ,  C11D1/66 ,  C11D1/667 ,  C11D1/825 ,  C11D3/2072 ,  C11D3/2093 ,  C11D3/43 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70925

摘要： Compositions and methods of using said composition for removing polymeric materials from surfaces, preferably cleaning contaminant buildup from a lithography apparatus without total disassembly of said apparatus.

摘要翻译： 使用所述组合物从表面去除聚合物材料的组合物和方法，优选地从光刻设备清洗污染物积聚物，而无需完全拆卸所述设备。

公开(公告)号：US09074169B2

公开(公告)日：2015-07-07

申请号：US13146438

申请日：2010-01-26

申请人： Tianniu Chen ,  Steven Bilodeau ,  Karl E. Boggs ,  Ping Jiang ,  Michael B. Korzenski ,  George Mirth ,  Kim Y. Van Berkel

发明人： Tianniu Chen ,  Steven Bilodeau ,  Karl E. Boggs ,  Ping Jiang ,  Michael B. Korzenski ,  George Mirth ,  Kim Y. Van Berkel

IPC分类号： C11D11/00 ,  C11D1/66 ,  C11D3/43

CPC分类号： C11D11/0041 ,  C11D1/66 ,  C11D1/667 ,  C11D1/825 ,  C11D3/2072 ,  C11D3/2093 ,  C11D3/43 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70925

摘要： Compositions and methods of using said composition for removing polymeric materials from surfaces, preferably cleaning contaminant buildup from a lithography apparatus without total disassembly of said apparatus.

摘要翻译： 使用所述组合物从表面去除聚合物材料的组合物和方法，优选地从光刻设备清洗污染物积聚物，而无需完全拆卸所述设备。