公开(公告)号：US20080176146A1

公开(公告)日：2008-07-24

申请号：US11885865

申请日：2006-03-16

申请人： Yasuo Tomita ,  Kouji Furushima ,  Kazuhiko Akimoto ,  Katsumi Chikama ,  Motohiko Hidaka ,  Keisuke Odoi

发明人： Yasuo Tomita ,  Kouji Furushima ,  Kazuhiko Akimoto ,  Katsumi Chikama ,  Motohiko Hidaka ,  Keisuke Odoi

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/001 ,  G03F7/033

摘要： It is an object of the present invention to provide a photosensitive composition capable of forming permanent holograms with low light scattering loss and high diffraction efficiency, and a method for forming a pattern. A photosensitive composition and a pattern formation method using the photosensitive composition are characterized in that the photosensitive composition used to form a pattern by pattern exposure includes: (a) a polymerizable compound, (b) a photopolymerization initiator, and (c) organic fine particles.

摘要翻译： 本发明的目的是提供能够形成具有低光散射损耗和高衍射效率的永久性全息图的光敏组合物，以及形成图案的方法。 使用该感光性组合物的感光性组合物和图案形成方法的特征在于，用于通过图案曝光形成图案的感光性组合物包括：（a）可聚合化合物，（b）光聚合引发剂，和（c）有机细颗粒 。