公开(公告)号：US20090053619A1

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：US11892764

申请日：2007-08-27

申请人： Shimon Maeda ,  Koujirou Ohyoshi

发明人： Shimon Maeda ,  Koujirou Ohyoshi

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F1/70

摘要： A pattern producing method includes specifying a first pattern and a second pattern obtained by modifying the first pattern, specifying a correction area based on the second pattern, in a part of an area including the first pattern and the second pattern, producing at least a part of the first pattern, which is included in the correction area, as a correction target pattern, producing a part of the first or second pattern, which is not included in the correction area, as a correction reference pattern, correcting the correction target pattern on the basis of the correction target pattern and the correction reference pattern, and producing a pattern based on the corrected correction target pattern and the second pattern.

摘要翻译： 图案生成方法包括：在包括第一图案和第二图案的区域的一部分中，指定通过修改第一图案而获得的第一图案和第二图案，该第一图案和第二图案指定基于第二图案的校正区域， 包括在校正区域中的第一图案作为校正目标图案，产生不包括在校正区域中的第一或第二图案的一部分作为校正参考图案，校正校正目标图案 校正目标图案和校正参考图案的基础，并且基于校正的校正目标图案和第二图案产生图案。

公开(公告)号：US07752595B2

公开(公告)日：2010-07-06

申请号：US11892764

申请日：2007-08-27

申请人： Shimon Maeda ,  Koujirou Ohyoshi

发明人： Shimon Maeda ,  Koujirou Ohyoshi

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F1/70

摘要： A pattern producing method includes specifying a first pattern and a second pattern obtained by modifying the first pattern, specifying a correction area based on the second pattern, in a part of an area including the first pattern and the second pattern, producing at least a part of the first pattern, which is included in the correction area, as a correction target pattern, producing a part of the first or second pattern, which is not included in the correction area, as a correction reference pattern, correcting the correction target pattern on the basis of the correction target pattern and the correction reference pattern, and producing a pattern based on the corrected correction target pattern and the second pattern.

摘要翻译： 图案生成方法包括：在包括第一图案和第二图案的区域的一部分中指定通过修改第一图案而获得的第一图案和第二图案，该第一图案和第二图案指定基于第二图案的校正区域， 包括在校正区域中的第一图案作为校正目标图案，产生不包括在校正区域中的第一或第二图案的一部分作为校正参考图案，校正校正目标图案 校正目标图案和校正参考图案的基础，并且基于校正的校正目标图案和第二图案产生图案。