公开(公告)号：US5560815A

公开(公告)日：1996-10-01

申请号：US495110

申请日：1995-06-27

申请人： Masao Sekimoto ,  Yukiei Matsumoto ,  Kyohei Kuroda ,  Takanobu Hayashi ,  Akio Nishi ,  Mitsuo Shibata

发明人： Masao Sekimoto ,  Yukiei Matsumoto ,  Kyohei Kuroda ,  Takanobu Hayashi ,  Akio Nishi ,  Mitsuo Shibata

IPC分类号： C25D3/06 ,  C25D17/10 ,  C25D17/12 ,  C25D3/04

CPC分类号： C25D17/10 ,  C25D3/06

摘要： A chromium plating method using a plating bath comprising trivalent chromium and an electrode which is an anode comprising an electrode substrate of titanium, tantalum, zirconium, niobium or an alloy thereof, coated with an electrode catalyst comprising at least iridium oxide and, optionally, at least one of titanium, tantalum, niobium, zirconium, tin, antimony, ruthenium, platinum, cobalt, molybdenum, tungsten or an oxide thereof. The anode may be placed directly in the chromium plating bath or may be placed in an anode chamber partitioned from the chromium plating bath with an ion-exchange membrane. The chromium plating method may be a barrel plating method.

摘要翻译： 使用包含三价铬的电镀浴和作为阳极的电极的镀铬方法，其包含钛，钽，锆，铌或其合金的电极基底，涂覆有至少包含氧化铱的电极催化剂，以及任选地 钛，钽，铌，锆，锡，锑，钌，铂，钴，钼，钨或其氧化物中的至少一种。 阳极可以直接放置在镀铬浴中，或者可以用离子交换膜置于与镀铬浴分隔的阳极室中。 镀铬法可以是滚镀法。