公开(公告)号：US08187452B2

公开(公告)日：2012-05-29

申请号：US12431705

申请日：2009-04-28

申请人： Steven C. Riemer ,  Ibro Tabakovic ,  Jie Gong ,  Hieu T. Lam ,  Mark T. Kief ,  Mark H. Ostrowski ,  Jiaoming Qiu

发明人： Steven C. Riemer ,  Ibro Tabakovic ,  Jie Gong ,  Hieu T. Lam ,  Mark T. Kief ,  Mark H. Ostrowski ,  Jiaoming Qiu

IPC分类号： B23H11/00

CPC分类号： C25F3/02 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/743 ,  G11B5/82 ,  G11B5/855

摘要： A patterned magnetic recording media and method thereof is provided. A recording layer comprises a continuous surface of more-noble elements and less-noble elements, such as CoXYZ, wherein X can be Pt, Pd, Ru, Rh, Ir, Os, or Au, wherein Y can be null or Cr, and wherein Z can be null, Cu, Ta, Ti, O, B, Ag, or TiO2. The recording layer is masked, shielding areas for recording domains and exposing areas between the recording domains. A voltage bias establishes the substrate as an anode in the presence of Pt cathode, in an electrolyte bath. Ions of the less-noble element are anodically removed predominantly from the exposed areas of the recording layer for a controlled time. The controlled time minimizes oxidation of the nobler element and reduces undercutting of the recording domains. The article produced can have separating areas with surfaces substantially formed of the more-noble element.

摘要翻译： 提供了一种图案化的磁记录介质及其方法。 记录层包括更贵族元素和较低贵族元素如CoXYZ的连续表面，其中X可以是Pt，Pd，Ru，Rh，Ir，Os或Au，其中Y可以是无效或Cr，以及 其中Z可以为零，Cu，Ta，Ti，O，B，Ag或TiO2。 屏蔽记录层，用于记录域的屏蔽区域和在记录域之间的曝光区域。 在Pt阴极的存在下，在电解质浴中，电压偏压建立了作为阳极的衬底。 较低贵族元素的离子主要从记录层的曝光区域阳极移除一段时间。 受控时间最小化了贵族元素的氧化并减少了记录域的底切。 所制造的制品可以具有基本上由更贵族元素形成的表面的分离区域。

公开(公告)号：US20100273026A1

公开(公告)日：2010-10-28

申请号：US12431705

申请日：2009-04-28

申请人： Steven C. Riemer ,  Ibro Tabakovic ,  Jie Gong ,  Hieu T. Lam ,  Mark T. Kief ,  Mark H. Ostrowski ,  Jiaoming Qiu

发明人： Steven C. Riemer ,  Ibro Tabakovic ,  Jie Gong ,  Hieu T. Lam ,  Mark T. Kief ,  Mark H. Ostrowski ,  Jiaoming Qiu

IPC分类号： G11B5/33 ,  C25F3/02

CPC分类号： C25F3/02 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/743 ,  G11B5/82 ,  G11B5/855

摘要： A patterned magnetic recording media and method thereof is provided. A recording layer comprises a continuous surface of more-noble elements and less-noble elements, such as CoXYZ, wherein X can be Pt, Pd, Ru, Rh, Ir, Os, or Au, wherein Y can be null or Cr, and wherein Z can be null, Cu, Ta, Ti, O, B, Ag, or TiO2. The recording layer is masked, shielding areas for recording domains and exposing areas between the recording domains. A voltage bias establishes the substrate as an anode in the presence of Pt cathode, in an electrolyte bath. Ions of the less-noble element are anodically removed predominantly from the exposed areas of the recording layer for a controlled time. The controlled time minimizes oxidation of the nobler element and reduces undercutting of the recording domains. The article produced can have separating areas with surfaces substantially formed of the more-noble element.

摘要翻译： 提供了一种图案化的磁记录介质及其方法。 记录层包括更贵族元素和较低贵族元素如CoXYZ的连续表面，其中X可以是Pt，Pd，Ru，Rh，Ir，Os或Au，其中Y可以是无效或Cr，以及 其中Z可以为零，Cu，Ta，Ti，O，B，Ag或TiO2。 屏蔽记录层，用于记录域的屏蔽区域和在记录域之间的曝光区域。 在Pt阴极的存在下，在电解质浴中，电压偏压建立了作为阳极的衬底。 较低贵族元素的离子主要从记录层的曝光区域阳极移除一段时间。 受控时间最小化了贵族元素的氧化并减少了记录域的底切。 所制造的制品可以具有基本上由更贵族元素形成的表面的分离区域。

公开(公告)号：US20100183957A1

公开(公告)日：2010-07-22

申请号：US12357296

申请日：2009-01-21

申请人： Zhongyan Wang ,  Thomas R. Boonstra ,  Mark H. Ostrowski ,  Alexandre V. Demtchouk ,  Xilin Peng ,  Kaizhong Gao

发明人： Zhongyan Wang ,  Thomas R. Boonstra ,  Mark H. Ostrowski ,  Alexandre V. Demtchouk ,  Xilin Peng ,  Kaizhong Gao

IPC分类号： G03F1/14

CPC分类号： G11B5/82 ,  G11B5/743 ,  G11B5/855 ,  G11B5/865

摘要： Aspects include methods to produce pattern media templates and the templates. A pattern of resist structures is formed on a first material layer. A conformal layer of a second material is deposited on the resist pattern, covering tops and side walls of the resist structures. The first material is more resistant to ion milling than the second material, and less resistant to plasma etching than the second material. The first material can be amorphous carbon and the second material can be aluminum oxide. The second material is removed on the tops, and preserved on the side walls. The resist structures and portions of the first layer not supporting second layer material are removed by plasma. The remaining structure is 2× denser than the resist pattern. Conformal deposition of second material and ion milling can be repeated. CMP removes the second material down to a portion of remaining first material, and remaining first material is removed by plasma, leaving a 4× denser pitch pattern structure formed from the second material.

摘要翻译： 方面包括产生图案媒体模板和模板的方法。 抗蚀剂结构的图案形成在第一材料层上。 第二材料的保形层沉积在抗蚀剂图案上，覆盖抗蚀剂结构的顶部和侧壁。 第一种材料比第二种材料更耐离子研磨，并且比第二种材料对等离子体蚀刻的抗性更差。 第一种材料可以是无定形碳，第二种材料可以是氧化铝。 第二种材料在顶部被去除，并保留在侧壁上。 通过等离子体去除抗蚀剂结构和不支撑第二层材料的第一层的部分。 剩余结构比抗蚀剂图案更密集2倍。 可以重复第二种材料的保形沉积和离子研磨。 CMP将第二材料除去到剩余的第一材料的一部分，并且通过等离子体去除剩余的第一材料，留下由第二材料形成的4×更密的节距图案结构。