公开(公告)号：US5778481A

公开(公告)日：1998-07-14

申请号：US690284

申请日：1996-07-26

申请人： Michael R. Amsden ,  Richard A. Bartley ,  Cuc Huynh ,  Paul A. Manfredi ,  Douglas P. Nadeau

发明人： Michael R. Amsden ,  Richard A. Bartley ,  Cuc Huynh ,  Paul A. Manfredi ,  Douglas P. Nadeau

IPC分类号： B08B1/04 ,  B24B37/26 ,  H01L21/00 ,  B08B11/00

CPC分类号： B24B37/26 ,  B08B1/04 ,  H01L21/67028

摘要： Disc shaped cleaning/polishing pads are disclosed for use on a cleaning/polishing apparatus wherein the surface of the cleaning/polishing pad comprises resilient members arranged in patterns which will facilitate the movement of fluids (deoinized water, chemical slurry, etc.) from the center region of the pad to the periphery of the pad. Arrangement of the resilient members on the pads may be spiral, swirl, concentric or any other suitable pattern which will direct fluids to the periphery of the pad upon rotation of the pad.

摘要翻译： 公开了用于清洁/抛光装置的盘形清洁/抛光垫，其中清洁/抛光垫的表面包括布置成图案的弹性构件，其将有利于流体（脱水的水，化学浆料等）的运动 垫的中心区域到垫的周边。 弹性构件在衬垫上的布置可以是螺旋形，漩涡形，同心或任何其它合适的图案，其在衬垫旋转时将流体引导到衬垫的周边。

公开(公告)号：US5894622A

公开(公告)日：1999-04-20

申请号：US1733

申请日：1997-12-31

申请人： Paul A. Manfredi ,  Douglas P. Nadeau ,  Raymond G. Morris ,  Richard A. Bartley ,  Michael R. Amsden, deceased

发明人： Paul A. Manfredi ,  Douglas P. Nadeau ,  Raymond G. Morris ,  Richard A. Bartley ,  Michael R. Amsden, deceased

IPC分类号： B08B1/00 ,  B08B1/04 ,  H01L21/00 ,  B08B11/02

CPC分类号： H01L21/67046 ,  B08B1/00 ,  B08B1/007 ,  B08B1/04

摘要： A brush conditioner for a semiconductor wafer cleaning tool including a pair if opposed, rotating flexible brushes. The conditioner is a wing-like structure having a leading edge and a trailing edge. The leading edge is forced against the rotating brushes flexing them to assist in removal of foreign material. The trailing edge tapers to a point and provides stability to the wing.

摘要翻译： 一种用于半导体晶片清洁工具的刷子调节器，包括一对相对的旋转柔性刷子。 护发素是具有前缘和后缘的翼状结构。 前缘被迫靠着旋转的刷子弯曲，以帮助去除异物。 后缘逐渐变细，并为机翼提供稳定性。