公开(公告)号：US5145706A

公开(公告)日：1992-09-08

申请号：US676303

申请日：1991-03-28

申请人： Takashi Hagi ,  Kouichi Misawa ,  Shuji Saito ,  Yuji Sakamoto ,  Noriaki Kadota ,  Yoshiro Toda ,  Nagataka Yamazaki

发明人： Takashi Hagi ,  Kouichi Misawa ,  Shuji Saito ,  Yuji Sakamoto ,  Noriaki Kadota ,  Yoshiro Toda ,  Nagataka Yamazaki

IPC分类号： A23J1/06 ,  A23J3/12 ,  A23L5/20 ,  A23L13/40

CPC分类号： A23J3/12 ,  A23J1/06 ,  A23L13/424 ,  A23L5/273

摘要： The present invention relates to a method for preparation of plasma powder characterized by catalytic treatment of plasma with colloidal silica and subsequent powdering of the plasma. The plasma powder thus obtained by the present invention is substantially free of malodorous substances.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于制备等离子体粉末的方法，其特征在于用胶体二氧化硅催化处理等离子体并随后粉化等离子体。 由本发明得到的等离子体粉末基本上不含恶臭物质。