公开(公告)号：US06207964B1

公开(公告)日：2001-03-27

申请号：US09253375

申请日：1999-02-19

申请人： Edward K. McIntyre ,  Donald E. DeLuca ,  Gerald L. Dionne ,  Paul A. Loomis ,  Hans J. Rutishauser ,  Donald N. Polner ,  Jun Lu

发明人： Edward K. McIntyre ,  Donald E. DeLuca ,  Gerald L. Dionne ,  Paul A. Loomis ,  Hans J. Rutishauser ,  Donald N. Polner ,  Jun Lu

IPC分类号： H01J37317

CPC分类号： H01J37/3171 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/304

摘要： A variable aperture assembly (30) is provided for controlling the amount of ion beam current passing therethrough in an ion implantation system (10). The aperture assembly (30) comprises an aperture (44) defined by opposing first and second aperture plates (44A, 44B) through which an ion beam passes; control arms (46A, 46B) connected, respectively, to the first and second aperture plates (44A, 44B); and an aperture drive mechanism (36) for simultaneously imparting movement to the control arms in opposite directions, to adjust a gap (50) between the aperture plates (44A, 44B) to thereby control the amount of current passing through the aperture (44). Each of the opposite directions in which the control arms move is generally perpendicular to an axis along which the ion beam passes. A control system (120) is also provided for automatically adjusting the aperture gap (50) based on inputs representing actual ion beam current passing through the implanter, desired ion beam current, and aperture position. The control system (120) includes control logic (122, 124) for receiving the inputs and outputting control signals (126, 128) to the aperture drive mechanism to adjust the aperture gap.

摘要翻译： 提供可变孔径组件（30）用于控制在离子注入系统（10）中通过其中的离子束电流的量。 孔径组件（30）包括由相对的第一和第二孔板（44A，44B）限定的孔（44），离子束通过该孔径通过; 分别连接到第一和第二孔板（44A，44B）的控制臂（46A，46B）; 以及孔径驱动机构（36），用于同时在相反方向上向所述控制臂施加运动，以调节所述孔板（44A，44B）之间的间隙（50），从而控制通过所述孔（44）的电流量， 。 控制臂移动的相反方向中的每一个大体上垂直于离子束通过的轴线。 还提供控制系统（120），用于基于表示通过注入机的实际离子束电流，期望的离子束电流和孔径位置的输入来自动调整孔隙（50）。 控制系统（120）包括用于接收输入的控制逻辑（122,124），并向孔径驱动机构输出控制信号（126,128）以调节孔隙。

公开(公告)号：US06194734B1

公开(公告)日：2001-02-27

申请号：US09253374

申请日：1999-02-19

申请人： Paul A. Loomis ,  Hans J. Rutishauser ,  Jun Lu ,  Michiro Sugitani ,  Toru Murakami ,  Hiroshi Sogabe

发明人： Paul A. Loomis ,  Hans J. Rutishauser ,  Jun Lu ,  Michiro Sugitani ,  Toru Murakami ,  Hiroshi Sogabe

IPC分类号： H01J37317

CPC分类号： H01J37/09 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3171

摘要： A system and method are provided for operating a variable aperture (30) for adjusting the amount of ion beam current passing therethrough in an ion implantation system (10). The system and method comprise means or steps for (i) measuring ion beam current at an implanter location using a current detector (35); (ii) comparing the measured ion beam current with a desired ion beam current; (iii) outputting a control signal (126, 128) based on the comparison of the measured ion beam current with the desired ion beam current; and (iv) adjusting a gap (50), through which through ion beam passes and which is defined by opposing first and second aperture plates (44A, 44B), in response to the control signal to control the amount of ion beam current passing therethrough. The current detector (35) provides ion beam current feedback, and a position sensor (116, 118) may be utilized to provide aperture plate (44A, 44B) position feedback. The system and method provide a quick, direct, and precise mechanism for effecting significant changes in ion beam current without requiring re-tuning of the source. The gap (50) of the aperture (44) is adjustable in increments of about 5 microns (&mgr;m).

摘要翻译： 提供了一种用于操作可变孔径（30）以用于调节在离子注入系统（10）中通过其中的离子束电流的量的系统和方法。 该系统和方法包括用于（i）使用电流检测器（35）测量在注入器位置处的离子束电流的装置或步骤; （ii）将所测量的离子束电流与期望的离子束电流进行比较; （iii）基于所测量的离子束电流与期望的离子束电流的比较来输出控制信号（126,128）; 和（iv）响应于控制信号调节通过离子束通过并由相对的第一和第二孔板（44A，44B）限定的间隙（50），以控制通过其的离子束电流的量 。 电流检测器（35）提供离子束电流反馈，并且位置传感器（116,118）可用于提供孔板（44A，44B）的位置反馈。 该系统和方法提供快速，直接和精确的机制来实现离子束电流的显着变化，而不需要对源进行重新调谐。 孔（44）的间隙（50）可以约5微米（母体）的增量调节。