公开(公告)号：US06207964B1

公开(公告)日：2001-03-27

申请号：US09253375

申请日：1999-02-19

申请人： Edward K. McIntyre ,  Donald E. DeLuca ,  Gerald L. Dionne ,  Paul A. Loomis ,  Hans J. Rutishauser ,  Donald N. Polner ,  Jun Lu

发明人： Edward K. McIntyre ,  Donald E. DeLuca ,  Gerald L. Dionne ,  Paul A. Loomis ,  Hans J. Rutishauser ,  Donald N. Polner ,  Jun Lu

IPC分类号： H01J37317

CPC分类号： H01J37/3171 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/304

摘要： A variable aperture assembly (30) is provided for controlling the amount of ion beam current passing therethrough in an ion implantation system (10). The aperture assembly (30) comprises an aperture (44) defined by opposing first and second aperture plates (44A, 44B) through which an ion beam passes; control arms (46A, 46B) connected, respectively, to the first and second aperture plates (44A, 44B); and an aperture drive mechanism (36) for simultaneously imparting movement to the control arms in opposite directions, to adjust a gap (50) between the aperture plates (44A, 44B) to thereby control the amount of current passing through the aperture (44). Each of the opposite directions in which the control arms move is generally perpendicular to an axis along which the ion beam passes. A control system (120) is also provided for automatically adjusting the aperture gap (50) based on inputs representing actual ion beam current passing through the implanter, desired ion beam current, and aperture position. The control system (120) includes control logic (122, 124) for receiving the inputs and outputting control signals (126, 128) to the aperture drive mechanism to adjust the aperture gap.

摘要翻译： 提供可变孔径组件（30）用于控制在离子注入系统（10）中通过其中的离子束电流的量。 孔径组件（30）包括由相对的第一和第二孔板（44A，44B）限定的孔（44），离子束通过该孔径通过; 分别连接到第一和第二孔板（44A，44B）的控制臂（46A，46B）; 以及孔径驱动机构（36），用于同时在相反方向上向所述控制臂施加运动，以调节所述孔板（44A，44B）之间的间隙（50），从而控制通过所述孔（44）的电流量， 。 控制臂移动的相反方向中的每一个大体上垂直于离子束通过的轴线。 还提供控制系统（120），用于基于表示通过注入机的实际离子束电流，期望的离子束电流和孔径位置的输入来自动调整孔隙（50）。 控制系统（120）包括用于接收输入的控制逻辑（122,124），并向孔径驱动机构输出控制信号（126,128）以调节孔隙。