公开(公告)号：US06482557B1

公开(公告)日：2002-11-19

申请号：US09534808

申请日：2000-03-24

申请人： Xiaoming Chen ,  Charles H. Howard ,  Franklin Dean Kalk ,  Kong Son ,  Paul Chipman

发明人： Xiaoming Chen ,  Charles H. Howard ,  Franklin Dean Kalk ,  Kong Son ,  Paul Chipman

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F1/84

摘要： A method and apparatus evaluates the runability of a photomask inspection tool that inspects plural sets of die, each die having a standard simulated industrial device feature at plural technology nodes. A technology node size is determined for each feature at which inspection by the tool provides no false detection of faults. A sensitivity module included on a photomask test plate along with a runability module allows determination of inspection tool sensitivity and runability in a single test sequence.

摘要翻译： 一种方法和装置评估检查多组模具的光掩模检查工具的可运行性，每个管芯在多个技术节点处具有标准的模拟工业设备特征。 对于每个特征确定技术节点大小，在该特征处，该工具的检查不会提供错误的错误检测。 包含在光掩模测试板中的灵敏度模块以及可运行性模块允许在单个测试序列中确定检查工具的灵敏度和运行性。

公开(公告)号：US06720114B1

公开(公告)日：2004-04-13

申请号：US09643005

申请日：2000-08-21

申请人： Amy A. Winder ,  Paul Chipman

发明人： Amy A. Winder ,  Paul Chipman

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F1/30

摘要： Disclosed are methods of forming alternating phase shift circuitry fabrication masks, methods of forming circuitry fabrication masks having a subtractive alternating phase shift region, and alternating phase shift masks. In one implementation, a method of forming an alternating phase shift circuitry fabrication mask incudes combining circuitry pattern data biasing and wet undercut etching of light transmissive substrate material adjacent phase shift regions of the mask in fabricating the mask. In one implementation, a method of forming an alternating phase shift circuitry fabrication mask includes combining circuitry pattern data biasing and wet undercut etching of light transmissive substrate material adjacent phase shift regions of the mask effective to achieve a first data biased pattern when using the mask to fabricate circuitry of a desired circuit pattern on another substrate. The first data biased pattern has at least some first resolution spacing falling between a discrete finite resolution spacing of which a writing tool used to fabricate the mask is capable of achieving.

摘要翻译： 公开了形成交变相移电路制造掩模的方法，形成具有减法交替相移区域的电路制造掩模和交替相移掩模的方法。 在一个实施方案中，形成交替相移电路制造掩模的方法包括在制造掩模时组合电路图案数据偏置和邻近相位相移区域的透光基板材料的湿底切蚀刻。 在一个实施方案中，形成交变相移电路制造掩模的方法包括组合电路图案数据偏置和与掩模相邻的相移区域相邻的透光衬底材料的湿底切蚀刻，以在使用掩模时实现第一数据偏置图案 在另一基板上制造所需电路图案的电路。 第一数据偏移图案具有至少一些第一分辨率间隔落在用于制造掩模的书写工具能够实现的离散有限分辨率间隔之间。

公开(公告)号：US1716911A

公开(公告)日：1929-06-11

申请号：US19930727

申请日：1927-06-16

申请人： ALFRED FRANK H ,  PAUL CHIPMAN

发明人： ALFRED FRANK H ,  PAUL CHIPMAN

IPC分类号： E01B3/40

CPC分类号： E01B3/40

公开(公告)号：US06721695B1

公开(公告)日：2004-04-13

申请号：US09989509

申请日：2001-11-20

申请人： Xiaoming Chen ,  Charles H. Howard ,  Franklin Dean Kalk ,  Kong Son ,  Paul Chipman

发明人： Xiaoming Chen ,  Charles H. Howard ,  Franklin Dean Kalk ,  Kong Son ,  Paul Chipman

IPC分类号： G06G748

CPC分类号： G03F1/84

摘要： A method and apparatus evaluates the runability of a photomask inspection tool that inspects plural sets of die, each die having a standard simulated industrial device feature at plural technology nodes. A technology node size is determined for each feature at which inspection by the tool provides no false detection of faults. A sensitivity module included on a photomask test plate along with a runability module allows determination of inspection tool sensitivity and runability in a single test sequence.

摘要翻译： 一种方法和装置评估检查多组模具的光掩模检查工具的可运行性，每个管芯在多个技术节点处具有标准的模拟工业设备特征。 对于每个特征确定技术节点大小，在该特征处，该工具的检查不会提供错误的错误检测。 包含在光掩模测试板中的灵敏度模块以及可运行性模块允许在单个测试序列中确定检查工具的灵敏度和运行性。

公开(公告)号：US1503227A

公开(公告)日：1924-07-29

申请号：US37921620

申请日：1920-05-06

申请人： PAUL CHIPMAN

发明人： PAUL CHIPMAN

IPC分类号： A47B81/06

CPC分类号： A47B81/067