公开(公告)号：US4326940A

公开(公告)日：1982-04-27

申请号：US40505

申请日：1979-05-21

申请人： William E. Eckles ,  Craig V. Bishop ,  Peter T. Vaitekunas

发明人： William E. Eckles ,  Craig V. Bishop ,  Peter T. Vaitekunas

IPC分类号： C25D21/14 ,  G01N1/00 ,  C25D17/00 ,  G01N35/00 ,  G05B15/00

CPC分类号： G01N35/1097 ,  C25D21/14

摘要： The invention provides an on-stream method and apparatus for analyzing of the concentrations of chemical components in a bath, especially in an electroplating bath, contained in one or more processing tanks. Moreover, the information obtained by such analysis of a single bath or of multiple baths may be efficiently employed to control such concentrations in the bath or respective baths, for example, by controlling the addition of one or more additives. The apparatus comprises a multi-steam sampling value and a computer for controlling the operation of said value. The computer also controls means for adding material to the baths in order to maintain the parameters thereof.

摘要翻译： 本发明提供了一种用于分析包含在一个或多个处理罐中的浴中，特别是电镀浴中的化学成分浓度的流动方法和装置。 此外，通过单浴或多浴的分析得到的信息可以有效地用于控制浴或各浴中的这种浓度，例如通过控制添加一种或多种添加剂。 该装置包括多蒸汽采样值和用于控制所述值的操作的计算机。 计算机还控制用于向浴中添加材料以便保持其参数的装置。