公开(公告)号：US06942893B2

公开(公告)日：2005-09-13

申请号：US10024272

申请日：2001-12-18

申请人： Bernard Delperier ,  Jean-Luc Domblides ,  Jean-Philippe Richard ,  Pierre Delaurens

发明人： Bernard Delperier ,  Jean-Luc Domblides ,  Jean-Philippe Richard ,  Pierre Delaurens

IPC分类号： C04B41/85 ,  C04B35/83 ,  C23C16/04 ,  C23C16/26 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458

CPC分类号： C04B35/83 ,  C23C16/045 ,  C23C16/26 ,  Y10S427/10

摘要： A porous substrate having a concave inside face and an outside face is disposed in an enclosure, and reactive gas is introduced into the enclosure to densify the substrate. At least a portion of the gas is divided into two non-zero fractions. The first fraction of the gas is fed to the inside face of the substrate. The second fraction of the gas is fed to only the outside face of the substrate. Alternatively, the first fraction of the gas is fed via a tooling extending into an inside volume defined by the concave inside face of the substrate.

摘要翻译： 具有凹入的内表面和外表面的多孔基材设置在外壳中，并且将反应性气体引入外壳中以使基底致密。 气体的至少一部分被分成两个非零分数。 气体的第一部分被供给到衬底的内表面。 气体的第二部分仅被供给到基板的外表面。 或者，气体的第一部分经由延伸到由衬底的凹入内表面限定的内部体积的工具进给。

公开(公告)号：US5904957A

公开(公告)日：1999-05-18

申请号：US945325

申请日：1997-10-15

申请人： Fran.cedilla.ois Christin ,  Pierre Daubigny ,  Pierre Delaurens ,  Jean-Luc Leluan

发明人： Fran.cedilla.ois Christin ,  Pierre Daubigny ,  Pierre Delaurens ,  Jean-Luc Leluan

IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/04 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/26

CPC分类号： C23C16/045 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458

摘要： A chemical vapor infiltration method for densifying porous substrates disposed in annular stacks. The substrates to be densified (12) are loaded inside a reaction chamber (11) of an infiltration oven, being disposed in at least one annular stack (30) defining an interior passage (31) with spaces (33) being formed between the substrates. The gas admitted into the reaction chamber is channelled on leaving a preheating zone (18) towards one of the two volumes constituted by the inside and the outside of the, or each, stack of substrates, and preferably towards the smaller volume. This volume (31) is closed at its opposite end so that the gas flows from admission into the chamber to its exhaust from the chamber from the inside to the outside of the, or each, stack, or vice versa, with the gas passing through the spaces between the substrates and diffusing into them.

摘要翻译： PCT No.PCT / FR96 / 00582 Sec。 371日期：1997年10月15日 102（e）1997年10月15日PCT PCT 1996年4月17日PCT公布。 出版物WO96 / 33295 日期1996年10月24日用于致密化设置在环形堆叠中的多孔基材的化学气相渗透方法。 要被致密化的基底（12）被装载在渗透炉的反应室（11）内，该反应室设置在限定内部通道（31）的至少一个环形堆叠（30）中，在基板之间形成有空间（33） 。 入口到反应室中的气体被引导离开预热区（18），朝向由每个或多个衬底堆的内部和外部构成的两个体积之一，并且优选地朝向较小体积。 该容积（31）在其相对端处封闭，使得气体从入口流入腔室至其从腔室的排出物从每个堆叠的每个堆叠的内部流向外部，或反之亦然，气体通过 衬底之间的空隙并扩散到它们中。