公开(公告)号：US20100049492A1

公开(公告)日：2010-02-25

申请号：US12441050

申请日：2007-09-12

申请人： Seema Bajaria ,  Christina M. Friedrich ,  Katherine Kudrycki ,  Cameron Mackay ,  Thomas Paterson ,  Saroja Ramanujan ,  Gregory Shaver

发明人： Seema Bajaria ,  Christina M. Friedrich ,  Katherine Kudrycki ,  Cameron Mackay ,  Thomas Paterson ,  Saroja Ramanujan ,  Gregory Shaver

IPC分类号： G06G7/48

CPC分类号： G01N33/5082 ,  G16B5/00 ,  G16H50/50

摘要： The invention encompasses novel computer models of chemical sensitivity of skin and systems for predicting chemical sensitivity of skin. In particular, the computer model of chemical sensitivity of skin comprises a) an epidermal compartment comprising a mathematical representation of exposure of an epidermal tissue to a chemical and a mathematical representation of a first population of antigen presenting cells interacting with the chemical; and b) a lymph node compartment comprising a mathematical representation of a second population of antigen presenting cells, and a mathematical representation of a population of T cells, wherein at least a subpopulation of the population of T cells interacts with the second population of antigen presenting cells.

摘要翻译： 本发明包括用于预测皮肤化学敏感性的皮肤和系统的化学敏感性的新型计算机模型。 特别地，皮肤的化学敏感性的计算机模型包括a）包含表皮组织暴露于化学物质的数学表示的表皮隔室以及与该化学物质相互作用的第一抗原呈递细胞群的数学表示; 和b）包括抗原呈递细胞的第二群体的数学表示的淋巴结隔室，以及T细胞群体的数学表示，其中T细胞群体的至少亚群与第二抗原呈递群体相互作用 细胞。