公开(公告)号：US07176114B2

公开(公告)日：2007-02-13

申请号：US10630301

申请日：2003-07-30

申请人： Ross H. Hill ,  Sharon Louise Blair ,  Grace Li ,  Xin Zhang ,  Haixiong Ruan

发明人： Ross H. Hill ,  Sharon Louise Blair ,  Grace Li ,  Xin Zhang ,  Haixiong Ruan

IPC分类号： H01L21/22 ,  H01L21/38 ,  G03F7/26

CPC分类号： H01L21/0337 ,  G03F7/0042 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/288 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/316 ,  H01L21/31691 ,  H05K3/106 ,  H05K2203/121

摘要： The invention generally encompasses a method for forming a pattern on a substrate. The method comprises applying a precursor comprising at least one metal to a substrate to form a precursor layer, exposing a predetermined portion of the precursor layer and developing the predetermined portion of the precursor layer. The developing step removes, or at least substantially removes, the predetermined portion from the substrate, thereby forming a pattern on the substrate that comprises a remaining portion of the precursor. In one embodiment, the precursor layer comprises Ti(PriO)2(EAA)2.

摘要翻译： 本发明通常包括在衬底上形成图案的方法。 该方法包括将包含至少一种金属的前体施加到基底以形成前体层，暴露前体层的预定部分并显影前体层的预定部分。 显影步骤从衬底去除或至少基本上除去预定部分，从而在包含前体的剩余部分的衬底上形成图案。 在一个实施方案中，前体层包含Ti（Pr O）2（EAA）2 N 2。