公开(公告)号：US4119465A

公开(公告)日：1978-10-10

申请号：US793779

申请日：1977-05-04

申请人： Tsutomu Matsuda ,  Takeshi Maeda ,  Takeo Hirabayashi ,  Nobuyoshi Watanabe

发明人： Tsutomu Matsuda ,  Takeshi Maeda ,  Takeo Hirabayashi ,  Nobuyoshi Watanabe

IPC分类号： G03C1/76 ,  G03C1/52 ,  G03C1/60 ,  G03C1/38

CPC分类号： G03F1/54 ,  G03C1/52 ,  G03C1/60 ,  Y10S428/913 ,  Y10T428/24901 ,  Y10T428/252 ,  Y10T428/259

摘要： A method of manufacturing a diazo copying material for use in preparing a secondary original, which comprises coating a water-dispersible precoating liquid comprising a porous powder, a binding agent and an anionic surface active agent having the following general formula on a transparent or translucent support and drying thereafter, and subsequently coating a photosensitive liquid consisting essentially of a photosensitive diazonium salt on the precoated surface of said support and drying thereafter.General formula: ##STR1## [wherein m represents Na or K, and R represents alkyl radical having 1 - 20 carbon atoms]

摘要翻译： 一种制造用于制备二次原件的重氮复制材料的制造方法，其包括在透明或半透明的载体上涂布包含多孔粉末，粘合剂和具有下列通式的阴离子表面活性剂的水分散性预涂液 然后干燥，然后将基本上由感光重氮盐组成的感光性液体涂布在所述载体的预涂表面上，然后干燥。

公开(公告)号：US4155762A

公开(公告)日：1979-05-22

申请号：US900411

申请日：1978-04-27

申请人： Tsutomu Matsuda ,  Yoshio Hagiwara ,  Yoichi Arai ,  Takeo Hirabayashi

发明人： Tsutomu Matsuda ,  Yoshio Hagiwara ,  Yoichi Arai ,  Takeo Hirabayashi

IPC分类号： G03C5/18 ,  G03C1/58 ,  G03C1/52 ,  G03C1/64

CPC分类号： G03C5/18

摘要： A liquid developer for use in developing binary diazo copying materials which consists essentially of an alkali metal salt of an aminoacid and/or an alkaline earth metal salt of an aminoacid.

摘要翻译： 用于开发二元重氮复制材料的液体显影剂，其基本上由氨基酸的碱金属盐和/或氨基酸的碱土金属盐组成。

公开(公告)号：US4416967A

公开(公告)日：1983-11-22

申请号：US372362

申请日：1982-04-27

申请人： Tsutomu Matsuda ,  Takeo Hirabayashi ,  Takeshi Yanagihara ,  Shinjiro Sakurai

发明人： Tsutomu Matsuda ,  Takeo Hirabayashi ,  Takeshi Yanagihara ,  Shinjiro Sakurai

IPC分类号： G03C1/52 ,  G03C1/60 ,  G03C1/76

CPC分类号： G03C1/60

摘要： A one-component or binary type diazo copying element comprises a substrate, a pre-coat layer overlying the substrate, said pre-coat layer being consisted essentially of fine particle silica and a specific copolymer having a glass transition temperature in the range of -20.degree. C. to 50.degree. C., and a diazo photosensitive layer overlying the pre-coat layer.

摘要翻译： 单组分或二元型重氮复印元件包括基底，覆盖在基底上的预涂层，所述预涂层基本上由细颗粒二氧化硅和具有-20℃范围内的玻璃化转变温度的特定共聚物组成 ℃至50℃，覆盖在预涂层上的重氮感光层。