公开(公告)号：US07736698B2

公开(公告)日：2010-06-15

申请号：US11800039

申请日：2007-05-03

申请人： Mark M. Hamilton ,  Michael P. Remington, Jr. ,  David A. Strickler ,  Thomas Kemmerley

发明人： Mark M. Hamilton ,  Michael P. Remington, Jr. ,  David A. Strickler ,  Thomas Kemmerley

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C03C17/245 ,  C03C2217/216 ,  C03C2218/152 ,  C23C16/407

摘要： A process for the production of a zinc oxide coating on a moving glass substrate provides a precursor mixture of a dialkylzinc compound, an oxygen-containing compound and an inert carrier gas. The precursor mixture is directed along a surface of the glass substrate in an atmospheric pressure, on-line, chemical vapor deposition process. The precursor mixture is reacted at the surface of the glass substrate to form a zinc oxide coating, essentially devoid of nitrogen, at a growth rate of >100 Å/second.

摘要翻译： 在移动的玻璃基底上生产氧化锌涂层的方法提供二烷基锌化合物，含氧化合物和惰性载气的前体混合物。 前体混合物在大气压，在线，化学气相沉积工艺中沿着玻璃基板的表面引导。 前体混合物在玻璃基底的表面反应，以大于/秒的生长速率形成基本上不含氮的氧化锌涂层。

公开(公告)号：US20070264429A1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：US11800039

申请日：2007-05-03

申请人： Mark Hamilton ,  Michael Remington ,  David Strickler ,  Thomas Kemmerley

发明人： Mark Hamilton ,  Michael Remington ,  David Strickler ,  Thomas Kemmerley

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C03C17/245 ,  C03C2217/216 ,  C03C2218/152 ,  C23C16/407

摘要： A process for the production of a zinc oxide coating on a moving glass substrate provides a precursor mixture of a dialkylzinc compound, an oxygen-containing compound and an inert carrier gas. The precursor mixture is directed along a surface of the glass substrate in an atmospheric pressure, on-line, chemical vapor deposition process. The precursor mixture is reacted at the surface of the glass substrate to form a zinc oxide coating, essentially devoid of nitrogen, at a growth rate of >100 Å/second.

摘要翻译： 在移动的玻璃基底上生产氧化锌涂层的方法提供二烷基锌化合物，含氧化合物和惰性载气的前体混合物。 前体混合物在大气压，在线，化学气相沉积工艺中沿着玻璃基板的表面引导。 前体混合物在玻璃基底的表面反应，以大于/秒的生长速率形成基本上不含氮的氧化锌涂层。

公开(公告)号：US20050044894A1

公开(公告)日：2005-03-03

申请号：US10652248

申请日：2003-08-29

申请人： Douglas Nelson ,  Thomas Kemmerley ,  Michael Remington

发明人： Douglas Nelson ,  Thomas Kemmerley ,  Michael Remington

IPC分类号： C03C17/245

CPC分类号： C03C17/245 ,  C03C2217/213 ,  C03C2218/152

摘要： A process for the production of a silica coating on a glass substrate provides a precursor mixture of SiH4, NH3, and O2, preferably in the presence of C2H4 and an inert carrier gas. The precursor mixture is directed along a surface of the glass substrate in an atmospheric pressure, on-line, chemical vapor deposition process. The precursor mixture is reacted at the surface of the glass substrate to form a silica coating, essentially devoid of nitrogen, on the glass substrate.

摘要翻译： 在玻璃基底上生产二氧化硅涂层的方法提供了SiH 4，NH 3和O 2的前体混合物，优选在C 2 H 4和惰性载气的存在下。 前体混合物在大气压，在线，化学气相沉积工艺中沿着玻璃基板的表面引导。 前体混合物在玻璃基底的表面反应，在玻璃基底上形成基本上没有氮的二氧化硅涂层。