公开(公告)号：US08263169B2

公开(公告)日：2012-09-11

申请号：US12246423

申请日：2008-10-06

申请人： Fuh-Wei Tang ,  Syed F. A. Hossainy ,  Dorie Happ ,  Ty T. Hu

发明人： Fuh-Wei Tang ,  Syed F. A. Hossainy ,  Dorie Happ ,  Ty T. Hu

IPC分类号： B05B13/02 ,  B05C13/00 ,  B05D3/00

CPC分类号： B29C39/003 ,  A61F2/91

摘要： A stent mandrel fixture for supporting a stent during the application of a coating substance is provided.

摘要翻译： 提供了一种用于在施加涂层物质期间支撑支架的支架心轴夹具。

公开(公告)号：US06547812B1

公开(公告)日：2003-04-15

申请号：US09750674

申请日：2000-12-29

申请人： Ty T. Hu

发明人： Ty T. Hu

IPC分类号： A61F206

CPC分类号： A61F2/86 ,  A61F2210/0095

摘要： A method and apparatus for inhibiting vascular restenosis using a radioactive implantable medical device and a radiosensitizer agent. In one embodiment, the method of the invention includes implanting a medical device at a blood vessel site that has undergone a procedure to open a stenosed region within a blood vessel. The medical device contains a radioisotope to emit a radioactivity to a tissue mass at the blood vessel site. The method further includes delivering a radiosensitizer agent to the tissue mass at the blood vessel site. The radiosensitizer agent increases a therapeutic response of the tissue mass to the radioactivity emitted by the radioisotope.

摘要翻译： 一种使用放射性可植入医疗装置和放射增敏剂来抑制血管再狭窄的方法和装置。 在一个实施例中，本发明的方法包括将医疗装置植入在已经经历在血管内打开狭窄区域的程序的血管位置处。 该医疗装置包含放射性同位素，以在血管部位向组织块发射放射性。 该方法还包括在血管部位向组织块输送放射增敏剂。 放射增敏剂增加组织块对由放射性同位素发射的放射性的治疗反应。

公开(公告)号：US07833566B2

公开(公告)日：2010-11-16

申请号：US12246434

申请日：2008-10-06

申请人： Fuh-Wei Tang ,  Syed F. A. Hossainy ,  Dorrie Happ ,  Ty T. Hu

发明人： Fuh-Wei Tang ,  Syed F. A. Hossainy ,  Dorrie Happ ,  Ty T. Hu

IPC分类号： A61L33/00 ,  B05C13/00

CPC分类号： B29C39/003 ,  A61F2/91

摘要： A stent mandrel fixture for supporting a stent during the application of a coating substance is provided.

公开(公告)号：US07918181B2

公开(公告)日：2011-04-05

申请号：US12246420

申请日：2008-10-06

申请人： Fuh-Wei Tang ,  Syed F. A. Hossainy ,  Dorrie Happ ,  Ty T. Hu

发明人： Fuh-Wei Tang ,  Syed F. A. Hossainy ,  Dorrie Happ ,  Ty T. Hu

IPC分类号： B05C13/02 ,  B05C13/00

CPC分类号： B29C39/003 ,  A61F2/91

摘要： A stent mandrel fixture for supporting a stent during the application of a coating substance is provided.

摘要翻译： 提供了一种用于在施加涂层物质期间支撑支架的支架心轴夹具。

公开(公告)号：US20090030509A1

公开(公告)日：2009-01-29

申请号：US12246434

申请日：2008-10-06

申请人： Fuh-Wei Tang ,  Syed F.A. Hossainy ,  Dorrie happ ,  Ty T. Hu

发明人： Fuh-Wei Tang ,  Syed F.A. Hossainy ,  Dorrie happ ,  Ty T. Hu

IPC分类号： A61F2/06 ,  A61B19/00

CPC分类号： B29C39/003 ,  A61F2/91

摘要： A stent mandrel fixture for supporting a stent during the application of a coating substance is provided.

公开(公告)号：US06504307B1

公开(公告)日：2003-01-07

申请号：US09727971

申请日：2000-11-30

申请人： Shamim M. Malik ,  Ty T. Hu

发明人： Shamim M. Malik ,  Ty T. Hu

IPC分类号： H05B3126

CPC分类号： H01J37/32412 ,  H01J37/3266

摘要： An apparatus and methods for modifying a surface of a target. The apparatus includes a reaction vessel having a reaction chamber. A cylindrical or spherical grid is positioned within the chamber. An electrode is also positioned within the chamber. A target can be positioned within the chamber and within the grid. A voltage source is operatively associated with the target and with the grid to separately but concurrently provide an independently variable voltage to both the grid and the electrode.

摘要翻译： 用于修改目标表面的装置和方法。 该装置包括具有反应室的反应容器。 圆柱形或球形网格位于腔室内。 电极也位于腔室内。 目标可以定位在舱内和网格内。 电压源可操作地与靶相连，并与电网分开，但同时向栅格和电极提供独立可变的电压。