公开(公告)号：US20110222739A1

公开(公告)日：2011-09-15

申请号：US12724362

申请日：2010-03-15

申请人： Xin Zhou ,  Yaogang Lian ,  Robert E. Gleason

发明人： Xin Zhou ,  Yaogang Lian ,  Robert E. Gleason

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70641

摘要： A technique for determining a set of calibration parameters for use in a model of a photo-lithographic process is described. In this calibration technique, images of a test pattern that was produced using the photo-lithographic process are used to determine corresponding sets of calibration parameters. These images are associated with at least three different focal planes in an optical system, such as a photo-lithographic system that implements the photo-lithographic process. Moreover, an interpolation function is determined using the sets of calibration parameters. This interpolation function can be used to determine calibration parameters at an arbitrary focal plane in the photo-lithographic system for use in simulations of the photo-lithographic process, where the set of calibration parameters are used in a set of transmission cross coefficients in the model of the photo-lithographic process.

摘要翻译： 描述了用于确定用于光刻工艺的模型中的一组校准参数的技术。 在该校准技术中，使用使用光刻工艺制作的测试图案的图像来确定相应的校准参数组。 这些图像与光学系统中的至少三个不同的焦平面相关联，例如实现光刻工艺的光刻系统。 此外，使用校准参数集来确定内插函数。 该插值函数可以用于确定光刻系统中的任意焦平面处的校准参数，以用于光刻工艺的模拟，其中在一组模型中的传输交叉系数中使用该组校准参数 的光刻工艺。

公开(公告)号：US08849008B2

公开(公告)日：2014-09-30

申请号：US13608776

申请日：2012-09-10

申请人： Xin Zhou ,  Yaogang Lian ,  Robert E. Gleason

发明人： Xin Zhou ,  Yaogang Lian ,  Robert E. Gleason

IPC分类号： G06K9/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70641

摘要： A technique for determining a set of calibration parameters for use in a model of a photo-lithographic process is described. In this calibration technique, images of a test pattern that was produced using the photo-lithographic process are used to determine corresponding sets of calibration parameters. These images are associated with at least three different focal planes in an optical system, such as a photo-lithographic system that implements the photo-lithographic process. Moreover, an interpolation function is determined using the sets of calibration parameters. This interpolation function can be used to determine calibration parameters at an arbitrary focal plane in the photo-lithographic system for use in simulations of the photolithographic process, where the set of calibration parameters are used in a set of transmission cross coefficients in the model of the photo-lithographic process.

摘要翻译： 描述了用于确定用于光刻工艺的模型中的一组校准参数的技术。 在该校准技术中，使用使用光刻工艺制作的测试图案的图像来确定相应的校准参数组。 这些图像与光学系统中的至少三个不同的焦平面相关联，例如实现光刻工艺的光刻系统。 此外，使用校准参数集来确定内插函数。 该内插函数可以用于确定光刻系统中的任意焦平面处的校准参数，以用于光刻工艺的模拟，其中在一组模拟中的传输交叉系数中使用该组校准参数 光刻工艺。

公开(公告)号：US20130004056A1

公开(公告)日：2013-01-03

申请号：US13608776

申请日：2012-09-10

申请人： Xin Zhou ,  Yaogang Lian ,  Robert E. Gleason

发明人： Xin Zhou ,  Yaogang Lian ,  Robert E. Gleason

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70641

摘要： A technique for determining a set of calibration parameters for use in a model of a photo-lithographic process is described. In this calibration technique, images of a test pattern that was produced using the photo-lithographic process are used to determine corresponding sets of calibration parameters. These images are associated with at least three different focal planes in an optical system, such as a photo-lithographic system that implements the photo-lithographic process. Moreover, an interpolation function is determined using the sets of calibration parameters. This interpolation function can be used to determine calibration parameters at an arbitrary focal plane in the photo-lithographic system for use in simulations of the photolithographic process, where the set of calibration parameters are used in a set of transmission cross coefficients in the model of the photo-lithographic process.

摘要翻译： 描述了用于确定用于光刻工艺的模型中的一组校准参数的技术。 在该校准技术中，使用使用光刻工艺制作的测试图案的图像来确定相应的校准参数组。 这些图像与光学系统中的至少三个不同的焦平面相关联，例如实现光刻工艺的光刻系统。 此外，使用校准参数集来确定内插函数。 该内插函数可以用于确定光刻系统中的任意焦平面处的校准参数，以用于光刻工艺的模拟，其中在一组模拟中的传输交叉系数中使用该组校准参数 光刻工艺。

公开(公告)号：US08285030B2

公开(公告)日：2012-10-09

申请号：US12724362

申请日：2010-03-15

申请人： Xin Zhou ,  Yaogang Lian ,  Robert E. Gleason

发明人： Xin Zhou ,  Yaogang Lian ,  Robert E. Gleason

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70641

摘要： A technique for determining a set of calibration parameters for use in a model of a photo-lithographic process is described. In this calibration technique, images of a test pattern that was produced using the photo-lithographic process are used to determine corresponding sets of calibration parameters. These images are associated with at least three different focal planes in an optical system, such as a photo-lithographic system that implements the photo-lithographic process. Moreover, an interpolation function is determined using the sets of calibration parameters. This interpolation function can be used to determine calibration parameters at an arbitrary focal plane in the photo-lithographic system for use in simulations of the photo-lithographic process, where the set of calibration parameters are used in a set of transmission cross coefficients in the model of the photo-lithographic process.

摘要翻译： 描述了用于确定用于光刻工艺的模型中的一组校准参数的技术。 在该校准技术中，使用使用光刻工艺制作的测试图案的图像来确定相应的校准参数组。 这些图像与光学系统中的至少三个不同的焦平面相关联，例如实现光刻工艺的光刻系统。 此外，使用校准参数集来确定内插函数。 该内插函数可以用于确定光刻系统中的任意焦平面处的校准参数，以用于光刻工艺的模拟，其中在一组模型中的传输交叉系数中使用该组校准参数 的光刻工艺。