公开(公告)号：US20110053805A1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：US12791466

申请日：2010-06-01

申请人： Elisa Riedo ,  Seth R. Marder ,  Walt A. de Heer ,  Robert J. Szoszkiewicz ,  Vamsi K. Kodali ,  Simon C. Jones ,  Takashi Okada ,  Debin Wang ,  Jennifer E. Curtis ,  Clifford L. Henderson ,  Yueming Hua

发明人： Elisa Riedo ,  Seth R. Marder ,  Walt A. de Heer ,  Robert J. Szoszkiewicz ,  Vamsi K. Kodali ,  Simon C. Jones ,  Takashi Okada ,  Debin Wang ,  Jennifer E. Curtis ,  Clifford L. Henderson ,  Yueming Hua

IPC分类号： C40B50/00 ,  C40B60/14 ,  C08F224/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  G01Q80/00 ,  G03F7/2049

摘要： Improved nanolithography components, systems, and methods are described herein. The systems and methods generally employ a resistively heated atomic force microscope tip to thermally induce a chemical change in a surface. In addition, certain polymeric compositions are also disclosed.

摘要翻译： 本文描述了改进的纳米光刻组件，系统和方法。 系统和方法通常采用电阻加热的原子力显微镜尖端来热诱导表面的化学变化。 此外，还公开了某些聚合物组合物。

公开(公告)号：US08468611B2

公开(公告)日：2013-06-18

申请号：US12791466

申请日：2010-06-01

申请人： Elisa Riedo ,  Seth R. Marder ,  Walt A. de Heer ,  Robert J. Szoskiewicz ,  Vamsi K. Kodali ,  Simon C. Jones ,  Takashi Okada ,  Debin Wang ,  Jennifer E. Curtis ,  Clifford L. Henderson ,  Yueming Hua

发明人： Elisa Riedo ,  Seth R. Marder ,  Walt A. de Heer ,  Robert J. Szoskiewicz ,  Vamsi K. Kodali ,  Simon C. Jones ,  Takashi Okada ,  Debin Wang ,  Jennifer E. Curtis ,  Clifford L. Henderson ,  Yueming Hua

IPC分类号： G01Q60/24 ,  G01Q60/38

CPC分类号： G03F7/0002 ,  G01Q80/00 ,  G03F7/2049

摘要： Improved nanolithography components, systems, and methods are described herein. The systems and methods generally employ a resistively heated atomic force microscope tip to thermally induce a chemical change in a surface. In addition, certain polymeric compositions are also disclosed.

摘要翻译： 本文描述了改进的纳米光刻组件，系统和方法。 系统和方法通常采用电阻加热的原子力显微镜尖端来热诱导表面的化学变化。 此外，还公开了某些聚合物组合物。