公开(公告)号：US20090015804A1

公开(公告)日：2009-01-15

申请号：US12081170

申请日：2008-04-11

申请人： Anthonius Martinus De Jong ,  Hans Jansen ,  Marco Koert Stavenga ,  Peter Franciscus Wanten ,  Bauke Jansen ,  Johannes Wilhelmus Cuijpers ,  Raymond Gerardus Beeren ,  Kornelis Tijmen Hoekerd

发明人： Anthonius Martinus De Jong ,  Hans Jansen ,  Marco Koert Stavenga ,  Peter Franciscus Wanten ,  Bauke Jansen ,  Johannes Wilhelmus Cuijpers ,  Raymond Gerardus Beeren ,  Kornelis Tijmen Hoekerd

IPC分类号： G03B27/52 ,  B08B13/00 ,  B08B3/12

CPC分类号： B08B3/12 ,  B08B3/08 ,  B08B2203/0288 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70925

摘要： A cleaning tool to clean a surface of a component of a lithographic apparatus is disclosed. The cleaning tool includes a sonic transducer, a liquid supply device configured to provide liquid to a reservoir between the surface to be cleaned and the sonic transducer, and a liquid outlet configured to remove liquid provided by the liquid supply device, the cleaning tool constructed and arranged such that, in use, liquid flows into the outlet under the influence of gravity.

摘要翻译： 公开了一种用于清洁光刻设备的部件的表面的清洁工具。 清洁工具包括声音换能器，液体供应装置，其构造成向要清洁的表面和声音换能器之间的储存器提供液体，以及液体出口，该液体出口构造成去除由液体供应装置提供的液体，所构建的清洁工具和 被布置为使得在使用中，液体在重力的影响下流入出口。

公开(公告)号：US20090015805A1

公开(公告)日：2009-01-15

申请号：US12081171

申请日：2008-04-11

申请人： Bauke Jansen ,  Raymond Gerardus Beeren ,  Anthonius Martinus De Jong ,  Kornelis Tijmen Hoekerd

发明人： Bauke Jansen ,  Raymond Gerardus Beeren ,  Anthonius Martinus De Jong ,  Kornelis Tijmen Hoekerd

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F7/70341

摘要： A cleaning tool to clean a surface of a liquid confinement system of an immersion lithographic apparatus is disclosed, the liquid confinement system having an aperture to allow passage of a beam of radiation therethrough of an immersion lithographic apparatus. The cleaning tool includes a sonic transducer, a reservoir configured to hold liquid between the sonic transducer and the surface to be cleaned, and a barrier positioned in the reservoir under the aperture to form, in use, a shield to sonic waves.

摘要翻译： 公开了一种用于清洁浸没式光刻设备的液体限制系统的表面的清洁工具，液体限制系统具有允许通过其中的浸没式光刻设备的光束通过的孔。 清洁工具包括声音换能器，被配置为在声音换能器和待清洁表面之间保持液体的储存器，以及位于孔下方的储存器中的屏障，以在使用中形成对声波的屏蔽。