公开(公告)号：US20120064661A1

公开(公告)日：2012-03-15

申请号：US13300075

申请日：2011-11-18

申请人： Benjamin Riordon ,  Russel Low ,  Atul Gupta ,  William Weaver

发明人： Benjamin Riordon ,  Russel Low ,  Atul Gupta ,  William Weaver

IPC分类号： H01L31/18

CPC分类号： H01L31/022425 ,  H01L21/266 ,  H01L31/022433 ,  H01L31/068 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： An improved, lower cost method of processing substrates, such as to create solar cells, is disclosed. The doped regions are created on the substrate, using a mask or without the use of lithography or masks. After the implantation is complete, visual recognition is used to determine the exact region that was implanted. This information can then be used by subsequent process steps to crate a suitable metallization layer and provide alignment information. These techniques can also be used in other ion implanter applications. In another aspect, a dot pattern selective emitter is created, and imaging is used to determine the appropriate metallization layer.

摘要翻译： 公开了一种改进的，低成本的处理衬底的方法，例如制造太阳能电池。 使用掩模或不使用光刻或掩模在衬底上产生掺杂区域。 植入完成后，使用视觉识别来确定植入的确切区域。 然后可以通过随后的工艺步骤来使用该信息来对合适的金属化层进行包装并提供对准信息。 这些技术也可用于其他离子注入机应用。 在另一方面，创建点图案选择性发射器，并且使用成像来确定合适的金属化层。