公开(公告)号：US20110147809A1

公开(公告)日：2011-06-23

申请号：US12644092

申请日：2009-12-22

申请人： Bin Yang ,  Devendra Sadana ,  Christian Lavoie ,  Ahmet Ozcan

发明人： Bin Yang ,  Devendra Sadana ,  Christian Lavoie ,  Ahmet Ozcan

IPC分类号： H01L29/78 ,  H01L21/20 ,  H01L21/336

CPC分类号： H01L21/26506 ,  H01L21/28518 ,  H01L29/665 ,  H01L29/6659 ,  H01L29/66636 ,  H01L29/7833 ,  H01L29/7834 ,  H01L29/7848

摘要： A method includes forming a silicon germanium layer, forming a layer comprising carbon and silicon on a top surface of the silicon germanium layer, forming a metal layer above the layer comprising carbon and silicon, and performing a thermal treatment to convert at least the layer comprising carbon and silicon to form a metal silicide layer.

摘要翻译： 一种方法包括形成硅锗层，在硅锗层的顶表面上形成包含碳和硅的层，在包含碳和硅的层之上形成金属层，并进行热处理以至少将含有 碳和硅以形成金属硅化物层。

公开(公告)号：US08404589B2

公开(公告)日：2013-03-26

申请号：US12754912

申请日：2010-04-06

申请人： Andrew J. Kellock ,  Christian Lavoie ,  Ahmet Ozcan ,  Stephen Rossnagel ,  Bin Yang ,  Zhen Zhang ,  Yu Zhu ,  Stefan Zollner

发明人： Andrew J. Kellock ,  Christian Lavoie ,  Ahmet Ozcan ,  Stephen Rossnagel ,  Bin Yang ,  Zhen Zhang ,  Yu Zhu ,  Stefan Zollner

IPC分类号： H01L21/44

CPC分类号： H01L21/28518 ,  H01L29/66795 ,  H01L29/785 ,  H01L2029/7858 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A method for forming a silicide contact includes depositing a metal layer on silicon such that the metal layer intermixes with the silicon to form an intermixed region on the silicon; removing an unintermixed portion of the metal layer from the intermixed region; and annealing the intermixed region to form a silicide contact on the silicon. A semiconductor device comprising a silicide contact located over a silicon layer of the semiconductor device, the silicide contact comprising nickel (Ni) and silicon (Si) and having Ni amount equivalent to a thickness of about 21 angstroms or less.

摘要翻译： 形成硅化物接触的方法包括在硅上沉积金属层，使得金属层与硅混合以在硅上形成混合区; 从所述混合区域去除所述金属层的未混合部分; 并且对所述混合区进行退火以在所述硅上形成硅化物接触。 一种半导体器件，包括位于所述半导体器件的硅层上方的硅化物触点，所述硅化物触点包含镍（Ni）和硅（Si），并且具有相当于约21埃或更小的厚度的Ni量。

公开(公告)号：US20110241213A1

公开(公告)日：2011-10-06

申请号：US12754912

申请日：2010-04-06

申请人： Andrew J. Kellock ,  Christian Lavoie ,  Ahmet Ozcan ,  Stephen Rossnagel ,  Bin Yang ,  Zhen Zhang ,  Yu Zhu ,  Stefan Zollner

发明人： Andrew J. Kellock ,  Christian Lavoie ,  Ahmet Ozcan ,  Stephen Rossnagel ,  Bin Yang ,  Zhen Zhang ,  Yu Zhu ,  Stefan Zollner

IPC分类号： H01L23/532 ,  H01L21/768

CPC分类号： H01L21/28518 ,  H01L29/66795 ,  H01L29/785 ,  H01L2029/7858 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A method for forming a silicide contact includes depositing a metal layer on silicon such that the metal layer intermixes with the silicon to form an intermixed region on the silicon; removing an unintermixed portion of the metal layer from the intermixed region; and annealing the intermixed region to form a silicide contact on the silicon. A semiconductor device comprising a silicide contact located over a silicon layer of the semiconductor device, the silicide contact comprising nickel (Ni) and silicon (Si) and having Ni amount equivalent to a thickness of about 21 angstroms or less.

摘要翻译： 形成硅化物接触的方法包括在硅上沉积金属层，使得金属层与硅混合以在硅上形成混合区; 从所述混合区域去除所述金属层的未混合部分; 并且对所述混合区进行退火以在所述硅上形成硅化物接触。 一种半导体器件，包括位于所述半导体器件的硅层上方的硅化物触点，所述硅化物触点包括镍（Ni）和硅（Si），并且具有相当于约21埃或更小的厚度的Ni量。